[實(shí)用新型]準(zhǔn)直器及具有該準(zhǔn)直器的探測(cè)裝置和掃描設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420743868.6
• 申請(qǐng)日: 2014-12-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN204500744U
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李延召
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢知微科技有限公司
• 主分類號(hào): A61B6/03
• 分類號(hào): A61B6/03;G21K1/02
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種準(zhǔn)直器，包括若干準(zhǔn)直孔，其特征在于：所述準(zhǔn)直器還包括依次分布于所述準(zhǔn)直器的若干個(gè)工作區(qū)，每一所述工作區(qū)設(shè)有若干個(gè)所述準(zhǔn)直孔，任一所述工作區(qū)中至少有部分區(qū)域具有不同于與之相鄰的另一所述工作區(qū)的厚度，使位于相鄰兩所述工作區(qū)當(dāng)中的至少二所述準(zhǔn)直孔具有不同的孔深。

2.如權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)直器，其特征在于：其中一所述工作區(qū)末端的厚度等于與之鄰接的另一所述工作區(qū)起端的厚度。

3.如權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)直器，其特征在于：其中一所述工作區(qū)末端的厚度不等于與之相鄰的另一所述工作區(qū)起端的厚度。

4.如權(quán)利要求2或3所述的準(zhǔn)直器，其特征在于：其中一所述工作區(qū)內(nèi)各處具有不盡相等的厚度，使位于該工作區(qū)的若干所述準(zhǔn)直孔中至少有兩個(gè)所述準(zhǔn)直孔具有不同的孔深。

5.如權(quán)利要求2或3所述的準(zhǔn)直器，其特征在于：其中一個(gè)所述工作區(qū)內(nèi)各處具有相等的厚度，使位于該工作區(qū)的若干所述準(zhǔn)直孔中的若干所述準(zhǔn)直孔具有相同的孔深。

6.如權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)直器，其特征在于：每一所述工作區(qū)由一準(zhǔn)直層組成，或由若干準(zhǔn)直層堆疊而成。

7.如權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)直器，其特征在于：所述準(zhǔn)直器為一體結(jié)構(gòu)。

8.一種探測(cè)裝置，其包括檢測(cè)裝置，其特征在于：所述探測(cè)裝置還包括權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的準(zhǔn)直器，所述準(zhǔn)直器用于對(duì)射線進(jìn)行準(zhǔn)直，并且準(zhǔn)直后的射線將被施加到所述檢測(cè)裝置上。

9.如權(quán)利要求8所述的探測(cè)裝置，其特征在于：所述準(zhǔn)直器的位置相對(duì)所述檢測(cè)裝置是可以調(diào)整變動(dòng)的。

10.一種掃描設(shè)備，其包括探測(cè)裝置和機(jī)架，所述探測(cè)裝置安裝于所述機(jī)架，其特征在于：所述探測(cè)裝置包括權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的準(zhǔn)直器，所述準(zhǔn)直器用于對(duì)射線進(jìn)行準(zhǔn)直。

11.如權(quán)利要求10所述的掃描設(shè)備，其特征在于：所述準(zhǔn)直器的位置相對(duì)檢測(cè)裝置是可以調(diào)整變動(dòng)的。