[實(shí)用新型]一種取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420736762.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-11-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204251712U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張維林;張愛(ài)春;計(jì)甫祥;張宗恩;趙偉偉;許潔濱;蔡偉;鮑軍仙;鄭瑜濱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 新萬(wàn)鑫(福建)精密薄板有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C24/04 | 分類號(hào): | C23C24/04 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 351200 福建省*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 取向 硅鋼 生產(chǎn)線 氧化鎂 裝置 | ||
1.一種取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置,具有上涂覆輥(1)、下涂覆輥(2)、噴頭(3)及安裝上涂覆輥(1)和下涂覆輥(2)的機(jī)架,所述下涂覆輥(2)下部設(shè)有集液斗(4);其特征在于:所述下涂覆輥(2)后部還設(shè)有輔助輥(5),所述輔助輥(5)與下涂覆輥(2)相嚙合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置,其特征在于:所述輔助輥(5)長(zhǎng)度為800~950mm,直徑為100~125mm,刻槽深度為0.5~0.7mm,軸向刻槽數(shù)目為18~30個(gè)/英寸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置,其特征在于:所述上涂覆輥(1)和下涂覆輥(2)相同,長(zhǎng)度800~950mm,直徑250~320mm;刻槽深度為0.4~0.8mm,軸向刻槽數(shù)目為18~30個(gè)/英寸。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置,其特征在于:所述刻槽深度為0.6mm,軸向刻槽數(shù)目為22~26個(gè)/英寸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置,其特征在于:所述噴頭(3)有兩個(gè),包括上噴頭(31)和下噴頭(32),所述上噴頭(31)位于上涂覆輥(1)后部;所述下噴頭(32)位于下涂覆輥(2)后部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置,其特征在于:所述上噴頭(31)傾斜設(shè)置,所述上噴頭(31)與水平面夾角為α,45°≤α≤75°;所述下噴頭(32)水平設(shè)置在輔助輥(5)與下涂覆輥(2)上部的中間位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置,其特征在于:所述上涂覆輥(1)、下涂覆輥(2)及輔助輥(5)內(nèi)部為空心不銹鋼套筒(6),外部為橡膠層(7)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置,其特征在于:所述上涂覆輥(1)、下涂覆輥(2)橡膠層厚度為20~50mm,輔助輥(5)橡膠層厚度為10~30mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向硅鋼生產(chǎn)線用氧化鎂涂覆裝置,其特征在于:所述集液斗(4)下部外表面設(shè)有保溫層(41)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C24-00 自無(wú)機(jī)粉末起始的鍍覆
C23C24-02 .僅使用壓力的
C23C24-08 .加熱法或加壓加熱法的
C23C24-10 ..覆層中臨時(shí)形成液相的
C23C24-04 ..顆粒的沖擊或動(dòng)力沉積
C23C24-06 ..粉末狀覆層材料的壓制,例如軋制





