[實用新型]一種基于光學的水合物生成監(jiān)測系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420735787.1 | 申請日: | 2014-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN204287033U | 公開(公告)日: | 2015-04-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 樊栓獅;陳樂求;郎雪梅;王燕鴻 | 申請(專利權)人: | 華南理工大學 |
| 主分類號: | G01N21/31 | 分類號: | G01N21/31 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 光學 水合物 生成 監(jiān)測 系統(tǒng) | ||
1.一種基于光學的水合物生成監(jiān)測系統(tǒng),包括向反應器單元中注入示蹤氣的示蹤氣注入單元、用于向反應器單元內(nèi)輸入并輸出激光以跟蹤反應器單元中示蹤氣體濃度變化的水合物生成監(jiān)測單元、用于檢測水合物生成監(jiān)測單元射出激光強度的分析單元、用于檢測反應器單元內(nèi)溫度和壓力變化的溫壓檢測單元、用于采集溫壓檢測單元及分析單元數(shù)據(jù)的采集單元,其特征在于:
所述水合物生成監(jiān)測單元包括激光發(fā)射器、設置于反應器單元內(nèi)的透氣性氣室(2),所述氣室(2)內(nèi)包括用于氣體吸收激光的懷特池、用于將射入氣室(2)內(nèi)的激光準直和耦合的第一自聚焦透鏡(1)和用于將懷特池內(nèi)反射的激光進行準直和耦合后射出氣室(2)內(nèi)的第二自聚焦透鏡(6),所述懷特池包括固定于氣室(2)內(nèi)壁一側的第三凹透鏡(5),所述氣室(2)內(nèi)壁另一側由上而下設置有可調(diào)節(jié)角度的第一凹透鏡(3)和第二凹透鏡(4),所述第一凹透鏡(3)和第二凹透鏡(4)、第三凹透鏡(5)的曲率半徑相同,所述第三凹透鏡(5)的曲率中心在第一凹透鏡(3)和第二凹透鏡(4)反射表面的對稱中心點,第一凹透鏡(3)和第二凹透鏡(4)的曲率中心在第三凹透鏡(5)的反射表面上,所述第一自聚焦透鏡(1)通過入射光纖連接激光發(fā)射器,所述第二自聚焦透鏡(6)通過出射光纖連接分析單元。
2.根據(jù)權利要求1所述的基于光學的水合物生成監(jiān)測系統(tǒng),其特征在于:所述氣室(2)頂部和底部相互錯開地設置有透氣孔(7),所述透氣孔(7)處設置有由聚四氟乙烯經(jīng)過膨化拉伸而成的微孔薄膜。
3.根據(jù)權利要求1所述的基于光學的水合物生成監(jiān)測系統(tǒng),其特征在于:所述第一凹透鏡(3)和第二凹透鏡(4)、第三凹透鏡(5)反射面涂有保證激光反射效率的銀反射層。
4.根據(jù)權利要求1所述的基于光學的水合物生成監(jiān)測系統(tǒng),其特征在于:所述激光發(fā)射器發(fā)射的激光波長為1055nm。
5.根據(jù)權利要求1所述的基于光學的水合物生成監(jiān)測系統(tǒng),其特征在于:還包括與激光發(fā)射器電路連接的電流控制器和溫度控制器,所述溫度控制器用于控制和穩(wěn)定激光發(fā)射裝置溫度;所述電流控制器用于控制激光發(fā)射裝置中的電流,穩(wěn)定激光發(fā)射裝置的輸出功率。
6.根據(jù)權利要求1所述的基于光學的水合物生成監(jiān)測系統(tǒng),其特征在于:所述示蹤氣包括SF6、H2S、CCl2F2。
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