[實(shí)用新型]一種等離子體刻蝕設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420734910.8 | 申請(qǐng)日： | 2014-11-27 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN204216005U | 公開(kāi)（公告）日： | 2015-03-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 鄒帥;王栩生 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 蘇州阿特斯陽(yáng)光電力科技有限公司;鹽城阿特斯協(xié)鑫陽(yáng)光電力科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J37/32 | 分類號(hào)： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 蘇州翔遠(yuǎn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32251 | 代理人： | 陸金星 |
| 地址： | 215129 江*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 等離子體 刻蝕 設(shè)備 | ||
1.一種等離子體刻蝕設(shè)備，包括機(jī)臺(tái)支架(1)、設(shè)于機(jī)臺(tái)支架上的傳動(dòng)系統(tǒng)，以及抽氣系統(tǒng)(12)和等離子體源；其特征在于：機(jī)臺(tái)支架上按傳動(dòng)系統(tǒng)行進(jìn)方向依次設(shè)有裝載緩沖腔室(5)、刻蝕去損傷層工藝腔室(6)、制絨工藝腔室(7)和卸載緩沖腔室(8)；各個(gè)腔室之間通過(guò)閥門(11)連通；
刻蝕去損傷層工藝腔室內(nèi)設(shè)有等離子體源(9)；制絨工藝腔室內(nèi)設(shè)有反應(yīng)性等離子體源(10)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕設(shè)備，其特征在于：所述傳動(dòng)系統(tǒng)為滾輪傳動(dòng)系統(tǒng)(2)，各個(gè)腔室內(nèi)以及裝載緩沖腔室之前、卸載緩沖腔室之后均設(shè)有獨(dú)立的滾輪傳動(dòng)系統(tǒng)；滾輪傳動(dòng)系統(tǒng)上設(shè)有配合的硅片載板(4)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕設(shè)備，其特征在于：所述閥門為氣動(dòng)閥門。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕設(shè)備，其特征在于：還設(shè)有控制系統(tǒng)，所述傳動(dòng)系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、等離子體源和閥門均與控制系統(tǒng)控制連接。
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