[實(shí)用新型]PECVD裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420731515.4
• 申請日: 2014-11-26
• 公開（公告）號: CN204211823U
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳五奎;李軍;徐文州;陳磊;馮加保
• 申請（專利權(quán)）人: 樂山新天源太陽能科技有限公司
• 主分類號: C23C16/513
• 分類號: C23C16/513
• 代理公司: 成都宏順專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51227
• 代理人: 李玉興

1.PECVD裝置，包括設(shè)置有爐門(1)的真空沉積室(2)，真空沉積室(2)內(nèi)設(shè)有石墨舟(3)，硅片放置于石墨舟(3)上，真空沉積室(2)上設(shè)有進(jìn)氣口(4)與排氣口(5)，所述進(jìn)氣口(4)上連接有用于通入制程氣體的進(jìn)氣管(6)，所述排氣口(5)上連接有排放管(8)，排放管(8)末端連接有真空泵(9)，真空泵(9)的進(jìn)口與排放管(8)的出口相連，真空泵(9)的出口連接有尾排管(10)，所述真空沉積室(2)上設(shè)置有用于打開或關(guān)閉爐門(1)的開關(guān)裝置(11)，其特征在于：所述開關(guān)裝置(11)包括底座(110)，所述底座(110)的上表面設(shè)置有可移動(dòng)平臺(111)以及用于驅(qū)動(dòng)可移動(dòng)平臺(111)沿水平方向移動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置(112)且可移動(dòng)平臺(111)的移動(dòng)方向與真空沉積室(2)軸向方向互相垂直，所述可移動(dòng)平臺(111)的上表面設(shè)置有可移動(dòng)式支架(113)以及用于推動(dòng)可移動(dòng)式支架(113)沿真空沉積室(2)軸向方向移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)裝置(114)，所述可移動(dòng)式支架(113)上固定有支撐桿(115)，所述支撐桿(115)的上端固定在爐門(1)上。

2.如權(quán)利要求1所述的PECVD裝置，其特征在于：所述第一驅(qū)動(dòng)裝置(112)、第二驅(qū)動(dòng)裝置(114)均為氣缸。

3.如權(quán)利要求2所述的PECVD裝置，其特征在于：所述進(jìn)氣管(6)與進(jìn)氣口(4)之間設(shè)置有氣體混合裝置(12)，所述氣體混合裝置(12)包括芯體(121)、殼體(122)，芯體(121)設(shè)置在殼體(122)內(nèi)，芯體(121)表面開有螺旋槽(123)，所述螺旋槽(123)的內(nèi)壁與殼體(122)的內(nèi)壁圍成封閉的螺旋式氣體通道，所述螺旋式氣體通道的一端與進(jìn)氣管(6)相連，另一端與真空沉積室(2)上設(shè)置有的進(jìn)氣口(4)相連，所述殼體(122)的外表面設(shè)置有加熱裝置。

4.如權(quán)利要求3所述的PECVD裝置，其特征在于：所述加熱裝置包括一層加熱棉(124)與一層絕熱布(125)，所述加熱棉(124)與絕熱布(125)之間設(shè)置有加熱電阻絲(126)，所述加熱電阻絲(126)與電源相連。

5.如權(quán)利要求4所述的PECVD裝置，其特征在于：所述真空泵(9)的出口與尾排管(10)之間設(shè)置有硅烷燃燒室(13)。

6.如權(quán)利要求5所述的PECVD裝置，其特征在于：在真空泵(9)的出口與尾排管(10)之間設(shè)置一個(gè)內(nèi)徑為150mm-300mm不銹鋼圓筒形成所述的硅烷燃燒室(13)。

7.如權(quán)利要求6所述的PECVD裝置，其特征在于：所述圓筒的外表面設(shè)置有多個(gè)緊固圈，相鄰的緊固圈之間通過金屬條連接在一起。

8.如權(quán)利要求7所述的PECVD裝置，其特征在于：所述真空泵(9)的進(jìn)口與排氣口(5)之間設(shè)置有旁路管(14)，所述旁路管(14)上設(shè)置有用于使旁路管(14)導(dǎo)通或關(guān)閉的旁通閥(15)，所述排放管(8)上設(shè)置有用于使排放管(8)導(dǎo)通或關(guān)閉的工藝閥(16)，所述排放管(8)的內(nèi)徑為50mm-70mm，所述旁路管(14)的內(nèi)徑為15mm-25mm。

9.如權(quán)利要求8所述的PECVD裝置，其特征在于：所述排放管(8)的內(nèi)徑為60mm，所述旁路管(14)的內(nèi)徑為20mm。

10.如權(quán)利要求9所述的PECVD裝置，其特征在于：所述工藝閥(16)、旁通閥(15)均為電磁閥，所述工藝閥(16)上連接有第一觸發(fā)式開關(guān)(17)，所述旁通閥(15)上連接有第二觸發(fā)式開關(guān)(18)，所述真空沉積室(2)內(nèi)設(shè)置有真空計(jì)(19)，還包括控制器(20)，所述第一觸發(fā)式開關(guān)(17)、第二觸發(fā)式開關(guān)(18)、真空計(jì)(19)分別與控制器(20)電連接。