[實用新型]一種內孔研磨拋光裝置有效
| 申請號: | 201420729591.1 | 申請日: | 2014-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN204235313U | 公開(公告)日: | 2015-04-01 |
| 發明(設計)人: | 孫光宇;魯繼科;陳燕康 | 申請(專利權)人: | 域鑫科技(惠州)有限公司 |
| 主分類號: | B24B5/48 | 分類號: | B24B5/48 |
| 代理公司: | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人: | 童海霓;劉彥 |
| 地址: | 516081 廣東省惠州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 研磨 拋光 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及研磨拋光技術領域,具體是指一種內孔研磨拋光裝置。
背景技術
機械拋光是指在專用的拋光機上進行拋光,依靠極細的拋光粉和磨面間產生的相對磨削和滾壓作用來消除磨痕,使工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平整表面的加工方法。為達到工件表面質量要求,人通過控制機械運動轉數、拋光壓力、磨料選擇、拋光時間控制等,表面拋光后粗糙度最小能達到Ra0.01um。
機械拋光按設備分類有氣動式、電動式;根據表面特征,可采用布輪、羊毛棒等工具,借助拋光蠟、拋光液或研磨膏等磨料進行機械拋光。目前針對內孔或深孔壁拋光,大都靠手工操作磨筆深入內孔拋光為主,此類作業方式存在以下弊端:第一、拋光的力度和方向不好控制,打磨頭沒接觸到的地方容易漏拋;第二、拋光時工件一般不運動,不能保證加工內孔壁整體均勻性;第三、手工勞動強度較大,拋光效率慢。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種拋光時工件與打磨頭作相對運動、自動進給、拋光效率高和拋光效果好的內孔研磨拋光裝置。
本實用新型可以通過以下技術方案來實現:
一種內孔研磨拋光裝置,包括三爪卡盤、工件、打磨頭、打磨筆和旋轉電機,所述的工件的一端置入三爪卡盤內,所述的打磨筆置于固定筒內,所述的打磨筆的一端設有打磨頭,打磨頭伸入工件上的內孔中,另一端與與旋轉電機連接,旋轉電機帶動打磨筆沿X軸旋轉,所述的三爪卡盤與第一電機連接,第一電機通過三爪卡盤控制并帶動工件沿X軸旋轉,使工件與打磨筆作相對旋轉運動,所述的打磨筆上套有搖擺固定套,打磨筆和搖擺固定套的右側通過固定銷與定位板連接,打磨筆和搖擺固定套可沿固定銷上下轉動,所述的固定筒設于自動進給工作臺上,所述的自動進給工作臺和打磨筆之間設有X軸移動機構和Y軸移動機構,所述的X軸移動機構和Y軸移動機構分別帶動打磨筆沿X軸方向移動和沿Y軸方向移動。本實用新型內孔研磨拋光裝置X軸移動機構和Y軸移動機構的自動進給的設置,有效避免了人工進給因操作者的操作技術和操作經驗不同,拋光效率低,拋光質量參差不齊,不好撐控的問題,具有拋光效率高,拋光表面的粗糙度和一致性好的優點,拋光效果好;工件的可旋轉設置,在拋光時使工件與打磨頭作相對運動,有效保證了加工內孔壁整體的均勻性;打磨筆與定位板的銷連接,打磨筆可沿固定銷向下轉動使打磨頭與工件內孔壁保持按壓式接觸,有效防止了打磨頭與內孔壁未接觸而導致的側面拋光不到位的情況出現,使內孔壁拋光完全,無漏研磨拋光地方。
進一步地,所述的X軸移動機構包括第一連接座、第一滑軌、第一滑塊和第一氣缸,所述的第一連接座與固定筒連接,第一連接座下方設有兩條平行設置的第一滑軌,第一連接座底部設有與第一滑軌相配合的第一滑塊,第一連接座的一端部與第一氣缸連接,第一氣缸帶動第一連接座沿第一滑軌左右移動。
進一步地,所述的Y軸移動機構位于X軸移動機構的下方,Y軸移動機構包括第二連接座、第二滑軌、第二滑塊和第二氣缸,所述的第二連接座固定在第一滑軌底部,第二連接座下方設有兩條平行設置的第二滑軌,第二連接座底部設有與第二滑軌相配合的第二滑塊,第二連接座的一端部與第二氣缸連接,第二氣缸帶動第二連接座和第一連接座一起沿第二滑軌前后移動。
進一步地,所述的搖擺固定套左側頂部設有彈簧,彈簧的頂部固定在固定筒內壁,彈簧的設置,拋光時打磨筆在彈簧的作用下向下運動使打磨頭與工作內孔壁按壓式接觸,有效防止打磨頭與內孔壁不接觸而造成的漏研磨拋光情況出現。
進一步地,所述的搖擺固定套底部設有限位螺釘,限位螺釘位于彈簧的正下方,用于限止打磨筆向下運動的幅度,打磨筆從水平向下運動的角度范圍為0~3度。
進一步地,所述的打磨頭上設有研磨涂層,研磨涂層的設置,便于提升研磨效率和研磨效果。
本實用新型內孔研磨拋光裝置,與現有技術相比,具有如下的有益效果:
第一、勞動強度低,自動進給的設置,降低了勞動強度;
第二、拋光效率高、效果好,自動進給,有效避免了人工進給因操作者的操作技術和操作經驗不同,拋光效率低,拋光質量參差不齊,不好撐控的問題,具有拋光效率高,拋光表面的粗糙度和一致性好的優點,經該研磨拋光裝置拋光2分鐘,其工件內孔表面粗糙度Ra≤0.175um,拋光效果好;
第三、拋光均勻,拋光時工件與打磨頭作相對運動,有效保證了加工內孔壁整體的均勻性;
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