[實用新型]一種微調刻蝕深度空間分布的系統有效
| 申請號： | 201420724635.1 | 申請日： | 2014-11-26 |
| 公開（公告）號： | CN204407287U | 公開（公告）日： | 2015-06-17 |
| 發明（設計）人： | 吳麗翔;邱克強;付紹軍 | 申請（專利權）人： | 中國科學技術大學 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251 | 代理人： | 楊學明;賈玉忠 |
| 地址： | 230026 安*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 微調 刻蝕 深度 空間 分布 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種微調刻蝕深度空間分布的系統，其特征在于：包括運動控制系統和掃描裝置；
所述運動控制系統，包括上位機運動控制單元和運動控制箱；
所述掃描裝置，包括葉片掃描組件和束寬修正雙滑門組件，其中，葉片掃描組件是一個兩軸掃描運動機構，束寬修正雙滑門組件是調節離子束束流寬度的雙滑動門機構。
2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，運動控制系統的運動控制箱內配備了一個或更多個可實現運動控制的器件。
3.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，掃描裝置的葉片掃描組件包括葉片、垂直導軌、滑塊和驅動電機。
4.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，掃描裝置的束寬修正雙滑門組件包括滑動門和驅動電機。
5.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，束寬修正雙滑門組件和葉片掃描組件在沿離子束流發射方向的前后順序可交換，位置也可調整。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學技術大學;，未經中國科學技術大學;許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420724635.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
