[實用新型]一種低阻力式足部按摩滾

有效

• 申請號: 201420714768.0
• 申請日: 2014-11-25
• 公開（公告）號: CN204319227U
• 公開（公告）日: 2015-05-13
• 發明（設計）人: 王昌華
• 申請（專利權）人: 上海泰昌健康科技股份有限公司
• 主分類號: A61H15/00
• 分類號: A61H15/00
• 代理公司: 上海世貿專利代理有限責任公司 31128
• 代理人: 葉克英;顧俊超

1.一種低阻力式足部按摩滾，包括，一輪架、一設置于所述輪架上的滾輪條組及一設置于所述輪架端部的封蓋，其特征在于，所述封蓋具有一固定部及一活動部，其中，所述固定部以固定地方式連接于所述輪架，而所述活動部以可相對轉動地方式環繞于所述固定部。

2.根據權利要求1所述的一種低阻力式足部按摩滾，其特征在于，所述活動部為一環形體，而所述固定部為一圓盤體，所述活動部于其內周面上形成有一環形凹槽，所述固定部的外緣容置于所述環形凹槽中并與其間隙配合，使得所述活動部與所述固定部可相對轉動。

3.根據權利要求1或2所述的一種低阻力式足部按摩滾，其特征在于，所述固定部上形成有至少一固定部固定孔，而所述輪架端部上形成有至少一輪架固定孔，藉由至少一連接件配合于所述至少一固定部固定孔及所述至少一輪架固定孔，使得所述固定部與所述輪架相固定連接。

4.根據權利要求1所述的一種低阻力式足部按摩滾，其特征在于，所述滾輪條組由沿所述輪架的圓周方向交替排列的至少一第一滾輪條及至少一第二滾輪條組成，其中，所述第一滾輪條與所述第二滾輪體呈交錯之勢。

5.根據權利要求4所述的一種低阻力式足部按摩滾，其特征在于，所述第一滾輪條與所述第二滾輪條的數量均為5個，且所述第一滾輪條比所述第二滾輪條多一滾齒。

6.根據權利要求1所述的一種低阻力式足部按摩滾，其特征在于，所述活動部上形成有一按摩用的摩擦紋路。

7.一種足浴盆，其特征在于，包含有權利要求1、2、4或6中的所述的足部按摩滾。