[實用新型]一種坩堝托盤

有效

• 申請號: 201420699626.1
• 申請日: 2014-11-20
• 公開（公告）號: CN204281886U
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 劉彬國;何京輝;曹祥瑞;顏超;陳二星
• 申請（專利權）人: 邢臺晶龍電子材料有限公司
• 主分類號: C30B15/10
• 分類號: C30B15/10;C30B29/06
• 代理公司: 石家莊國為知識產權事務所 13120
• 代理人: 米文智

技術領域

本實用新型涉及直拉單晶爐技術領域。

背景技術

直拉單晶爐是太陽能級單晶硅生產中的常用設備，該設備主要包含以下幾部分：

（1）提拉頭：主要由安裝盤、減速機、籽晶腔、劃線環、電機、磁流體、籽晶稱重頭和波紋管等部件組成；

（2）副室：主要由副室筒以及上下法蘭組成；

（3）爐蓋：主要由副室連接法蘭、翻板閥、觀察窗和抽真空管道組成；

（4）爐筒：包括取光孔；

（5）下爐筒：包括抽真空管道；

（6）底座機架：包括全鑄鐵機架和底座；

（7）坩堝下傳動裝置：主要由磁流體、電機、坩堝支撐軸、減速機、波紋管、立柱、上下傳動支撐架和導軌等部件組成；

（8）分水器水路布置：包括分水器、進水水管、若干膠管和水管卡套等；

（9）氬氣管道布置：包括質量流量計、柔性管、不銹鋼管、壓力探測器和高密封性卡套等部件；

（10）真空泵以及真空除塵裝置：包括油壓真空泵、水環真空泵、過濾器、真空管道和波紋管等；

（11）電源以及電控柜：包括電源柜、濾波柜、控制柜以及各種連接線。

直拉單晶爐在使用中，隨著單晶爐投料量的增加，石英坩堝承受的壓力增大，容易出現石英坩堝開裂的現象，從而發生漏硅問題，當漏硅發生后，硅液會沿著石墨坩堝、坩堝托盤以及石墨堝桿流下，引起各石墨部件粘住或直接斷裂，導致無法繼續使用，造成部件的損壞和報廢，此外，金屬波紋管被燙壞還會造成爐內進入空氣，從而引發嚴重事故。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是針對上述現有技術的不足，提供一種坩堝托盤，該坩堝托盤的底部設有用于阻止硅液流到坩堝托桿及爐內其他重要部件上，從而保護爐內的貴重部件免受損壞，并能夠保護金屬波紋管，防止因爐內進氣而引發的危險事故。

為解決上述技術問題，本實用新型所采取的技術方案是：一種坩堝托盤，其包括托盤主體，托盤主體在使用中置于坩堝托桿之上，托盤主體的底部設有環形凸起，該環形凸起的內徑大于坩堝托桿的直徑，環形凸起的幾何中心位于托盤主體的中軸線上。

作為優選，環形凸起的內徑為230毫米。

作為優選，環形凸起的內徑為250毫米。

以上所說內徑均為內圓的直徑。

采用上述技術方案所產生的有益效果在于：本實用新型對現有坩堝托盤的結構做出改進，在現有坩堝托盤的底部設置了環形凸起，該環形凸起可以阻止硅液流過，起到保護爐內貴重部件的作用，為企業節省大量資金，此外，本裝置還可對金屬波紋管起到保護作用，防止因金屬波紋管被硅液燙壞，單晶爐內進入空氣而引發的危險事故。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是圖1的側視圖；

圖3是本實用新型的使用狀態圖。

圖中：1、托盤主體；2、環形凸起；3、坩堝托桿；4、石英坩堝；5、石墨坩堝。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明。

如圖1、2和3所示，一種坩堝托盤，其包括托盤主體1，托盤主體1的底部設有環形凸起2，環形凸起2的幾何中心位于托盤主體1的中軸線上，該環形凸起2的內徑為230毫米，該內徑大于坩堝托桿3的直徑，因此將該坩堝托盤放在坩堝托桿3上后環形凸起2正好環繞在坩堝托桿3的四周，從而防止硅液流到坩堝托桿3及其他部件處。

本實用新型能夠有效防止硅液流到石墨堝桿與金屬波紋管處，起到保護貴重部件的作用，同時，能夠防止因金屬波紋管被硅液燙壞，單晶爐內進入空氣而引發的危險事故。

目前，新石墨堝桿的價格為1824.65元，新金屬波紋管的價格為8034.19元，因此，使用本實用新型后可以節省（1824.65?+?8034.19?=?）9858.84元，可見本實用新型確實能夠為企業節省大量資金，非常實用。