[實用新型]一種用于氣體分離膜組件的氣體穩流分配器

有效

• 申請號: 201420686823.X
• 申請日: 2014-11-17
• 公開（公告）號: CN204247037U
• 公開（公告）日: 2015-04-08
• 發明（設計）人: 衛旺;倉蓉;姜冬青
• 申請（專利權）人: 江蘇匯維特新材料科技有限公司
• 主分類號: B01D53/22
• 分類號: B01D53/22
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

技術領域

本發明屬于化工設備領域，尤其涉及一種用于氣體分離膜組件的氣體穩流分配器。

背景技術

膜分離技術是指在分子水平上不同粒徑分子的混合物在通過半透膜時，實現選擇性分離的技術，半透膜又稱分離膜或濾膜，膜壁布滿小孔，根據孔徑大小可以分為：微濾膜（MF）、超濾膜（UF）、納濾膜（NF）、反滲透膜（RO）等，膜分離都采用錯流過濾方式。

膜分離技術用于VOCS（揮發性有機化合物）回收上的優點是投資費用低、分離因子大、分離效果好，即凈化效果好，而且膜法凈化操作簡單、控制方便、操作彈性大；但是膜組件內部的氣體仍然存在分布不均勻，氣體流速過快，導致膜面積不能充分利用，滲透側的有機蒸汽富集倍數低。

因此，急需一種用于氣體分離膜組件的氣體穩流分配器來克服以上問題。

發明內容

本發明的目的是提供了一種用于氣體分離膜組件的氣體穩流分配器，以解決現有技術中氣體進膜流速大，氣體不穩定，停留時間短，分離效率低的問題。

為實現上述目的，本發明采用以下技術方案：

一種用于氣體分離膜組件的氣體穩流分配器，包括殼體，所述殼體內設置有上下平行的多孔氣流分布板和多孔板，多孔氣流分布板下側連接有管式噴射器，管式噴射器內設置有螺旋導流板。

進一步的，所述殼體內壁上多孔氣流分布板下設置有第一支撐板。

進一步的，所述殼體內壁上多孔板下設置有第二支撐板。

進一步的，所述多孔氣流分布板為厚度均勻的圓型多孔板。

進一步的，所述多孔氣流分布板的孔上焊接有管式噴射器。

進一步的，所述管式噴射器豎直設置。

進一步的，所述管式噴射器的底部和靠近底部的側壁上開有小孔。

進一步的，所述多孔板上設置有若干圓孔，圓孔沿著半徑由圓心向圓周逐漸縮小，且分布均勻。

進一步的，所述殼體下端通過法蘭與膜組件相接。

進一步的，所述殼體可以連接至少1個膜組件，膜組件的連接形式可以是串聯或并聯。

本發明的有益效果：本實用新型通過改變多孔板的開孔率，開孔大小，管式噴射器的結構、管式噴射器的布置方式、殼體的形式和大小來降低穩定進膜組件的氣速，使氣體能與膜充分接觸、延長了氣體在膜組件內的停留時間，同時防止了濃差極化的產生；膜組件內部的氣體分布均勻，氣體進膜流速慢，氣體穩定，停留時間長，膜面積充分利用，滲透側的有機蒸汽富集倍數高，分離效率高。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是本實用新型的局部放大圖；

圖3是本實用新型的使用狀態圖；

其中：1-殼體，2-第一支撐板，3-第二支撐板，4-多孔氣流分布板，5-管式噴射器，6-螺旋導流板，7-多孔板，8-膜組件，9-法蘭。

具體實施方式

為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。

一種用于氣體分離膜組件的氣體穩流分配器，包括殼體，所述殼體1內設置有上下平行的多孔氣流分布板4和多孔板7，多孔氣流分布板4下側連接有管式噴射器5，管式噴射器5內設置有螺旋導流板6。

所述殼體1內壁上多孔氣流分布板4下設置有第一支撐板2，拆卸方便。

所述殼體1內壁上多孔板7下設置有第二支撐板3，拆卸方便。

所述多孔氣流分布板4為厚度均勻的圓型多孔板。

所述多孔氣流分布板4的孔上焊接有管式噴射器5。

所述管式噴射器5豎直設置。

所述管式噴射器5的底部和靠近底部的側壁上開有小孔。

所述多孔板7上設置有若干圓孔，圓孔沿著半徑由圓心向圓周逐漸縮小，且分布均勻。

所述殼體1下端通過法蘭9與膜組件8相接。

殼體1可以連接至少1個膜組件，膜組件8的連接形式可以是串聯或并聯。

多孔氣流分布板4上開孔，開孔率和開孔大小可由流體力學計算得到。

本實用新型通過改變多孔板的開孔率，開孔大小，管式噴射器的結構、管式噴射器的布置方式、殼體的形式和大小來降低穩定進膜組件的氣速，使氣體能與膜充分接觸、延長了氣體在膜組件內的停留時間，同時防止了濃差極化的產生；膜組件內部的氣體分布均勻，氣體進膜流速慢，氣體穩定，停留時間長，膜面積充分利用，滲透側的有機蒸汽富集倍數高，分離效率高。

上述雖然結合實施例對本發明的具體實施方式進行了描述，但并非對本發明保護范圍的限制，所屬領域技術人員應該明白，在本發明的技術方案的基礎上，本領域技術人員不需要付出創造性的勞動即可做出的各種修改或變形仍在本發明的保護范圍之內。