[實用新型]用于純水處理的雙排奇數EDI裝置有效
| 申請號: | 201420685415.2 | 申請日: | 2014-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN204281388U | 公開(公告)日: | 2015-04-22 |
| 發明(設計)人: | 鄭緯元;蔡國強;干天明;王佳怡;屈金永 | 申請(專利權)人: | 杭州廣業環保有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/469 | 分類號: | C02F1/469 |
| 代理公司: | 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109 | 代理人: | 俞潤體;沈相權 |
| 地址: | 311201 浙江省杭州市蕭山區北干街道建設一路*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 純水 處理 奇數 edi 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種EDI裝置,尤其涉及一種用于純水處理的雙排奇數EDI裝置。
背景技術
EDI技術以其產水水質高,環境污染小等優勢,在高純水行業逐步取代傳統的混床工藝。常規的EDI裝置,采用雙排或者三層布置,三層布置時,最上面一層位置較高,檢修維護操作非常不便;常規的EDI裝置,采用偶數配置,在制水量足夠的情況下,為滿足配置需要增設模塊,浪費了設備使用容量,增加了系統投資;采用單電源模式,一對一使用,加大了控制箱尺寸,增加了系統投資。同時存在結構復雜,使用效果不明顯。
中國專利201320255647.X,公開了一種火電廠鍋爐補給水系統中EDI膜堆水質控制裝置,包括至少兩臺EDI膜堆或兩組EDI膜堆,其中所述EDI膜堆的輸入端連接一總進水管路且輸出端連接一總產水管路,所述總進水管路包括兩個或兩個以上分進水管路,所述總產水管路包括兩個或者兩個以上的分產水管路;每個所述分進水管路上設置進水流量計,每個所述分產水管路上設置產水電阻率儀、分回水管路;所述分回水管路與所述分產水管路連接處設置電磁三通閥;其中每個所述分回水管路連接所述總進水管路。確保每臺EDI膜堆或者每組EDI膜堆的產水水質達到用水要求后,流入總產水管路;不達標的產水通過電磁三通閥,流入分回水管路。此裝置涉及一種火電廠鍋爐補給水系統中EDI膜堆水質控制裝置,采用偶數膜堆配置,對系統適應性略差,投資和控制配置過剩,同時結構過于復雜,增加使用成本。
實用新型內容
本實用新型主要是解決現有技術中存在的不足,提供一種結構緊湊,控制方便,結構緊湊,安裝維修管理簡便而且造價相對較低,對于不同系統適應性較好的用于純水處理的雙排奇數EDI裝置。
本實用新型的上述技術問題主要是通過下述技術方案得以解決的:
一種用于純水處理的雙排奇數EDI裝置,包括框架,所述的框架中設有電源控制器和EDI裝置模塊,所述的EDI裝置模塊呈雙排奇數并聯分布,所述的框架中設有進水管、出水管、濃水管、不合格產水管、清洗進水管和清洗出水管,所述的進水管與出水管分別與EDI裝置模塊相連通,所述的進水管與EDI裝置模塊間通過模塊進水閥控制,所述的出水管與EDI裝置模塊間通過模塊出水閥控制,所述的清洗進水管與進水管呈同路分布,所述的濃水管與EDI裝置模塊相連通,所述的清洗出水管分別與濃水管和出水管呈同路分布,所述的不合格產水管與出水管相連通,所述的電源控制器控制EDI裝置模塊。
作為優選,所述的清洗進水管與清洗出水管中分別設有壓力表及流量計取樣管,所述的框架中設有預留EDI裝置模塊位。
EDI裝置模塊采用雙排布置,方便檢修和維護;設置各類管道安裝支撐點,便于機架內部管路的安裝和運行。EDI裝置模塊采用奇數配置,在滿足流量要求的情況下,無需配置額外的模塊,同時可以預留備用模塊位置,以滿足后期用水量增加的情況下,無需改造設備即可提高出力。
電源控制器包括EDI電源和帶按鈕的就地控制箱。EDI電源采用一拖二模式,每一個電源對應兩臺EDI模塊,其中一個電源對應一臺EDI模塊及預留模塊。預留EDI裝置模塊位為預留模塊。
濃水管為廢水或污水的出管;不合格產水管與出水管相連通,當出水管的水質不合格時,通過不合格產水管向外排出。
因此,本實用新型的用于純水處理的雙排奇數EDI裝置,結構緊湊,提高污水處理能力,凈化效果出色,使用方便。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖;
圖2是本實用新型的剖視結構示意圖。
具體實施方式
下面通過實施例,并結合附圖,對本實用新型的技術方案作進一步具體的說明。
實施例1:如圖1和圖2所示,一種用于純水處理的雙排奇數EDI裝置,包括框架1,所述的框架1中設有電源控制器2和EDI裝置模塊3,所述的EDI裝置模塊3呈雙排奇數并聯分布,所述的框架1中設有進水管4、出水管5、濃水管6、不合格產水管7、清洗進水管8和清洗出水管9,所述的進水管4與出水管5分別與EDI裝置模塊3相連通,所述的進水管4與EDI裝置模塊3間通過模塊進水閥10控制,所述的出水管5與EDI裝置模塊3間通過模塊出水閥11控制,所述的清洗進水管8與進水管4呈同路分布,所述的濃水管6與EDI裝置模塊3相連通,所述的清洗出水管9分別與濃水管6和出水管5呈同路分布,所述的不合格產水管7與出水管5相連通,所述的電源控制器2控制EDI裝置模塊3。
所述的清洗進水管8與清洗出水管9中分別設有壓力表及流量計取樣管12,所述的框架1中設有預留EDI裝置模塊位13。
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