[實用新型]一種用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420682977.1
• 申請日: 2014-11-13
• 公開（公告）號: CN204224702U
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發(fā)明（設計）人: 王振中
• 申請（專利權）人: 廈門烯成科技有限公司
• 主分類號: C23C16/26
• 分類號: C23C16/26;C23C16/44
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于：所述系統(tǒng)包括機架、管式加熱爐膛和石英管，所述石英管通過支撐機構固定在機架上，所述石英管中間固定有石英密封隔板，形成第一石英管和第二石英管，所述管式加熱爐膛通過滑動軌道連接在機架上，可沿石英管外壁徑向滑動包圍第一石英管或者第二石英管；所述第一石英管和第二石英管不相連的一端均設有進樣端，所述進樣端均通過法蘭連接供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和過壓保護系統(tǒng)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于：所述管式加熱爐膛沿石英管外壁徑向滑動包圍第一石英管或者第二石英管時，所述第二石英管或者第一石英管露在大氣環(huán)境中。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于：所述供氣系統(tǒng)包括氣源、氣體質量流量控制器、閥門和進氣管道，所述氣源、氣體質量流量控制器和閥門通過進氣管道相連接，所述進氣管道從進樣端延伸至石英密封隔板附近。

4.根據(jù)權利要求3所述的一種用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于：所述氣源包括氬氣、甲烷和氫氣。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于：所述真空系統(tǒng)包括真空壓力計和真空泵。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于：所述系統(tǒng)還包括控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)包括計算機控制系統(tǒng)和傳感器，所述傳感器分別設置在管式加熱爐膛、第一石英管、第二石英管、供氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)上，通過I/O接口模塊與計算機控制系統(tǒng)的輸入端相連接。