[實用新型]一種密封面深度檢具有效
| 申請號: | 201420679679.7 | 申請日: | 2014-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN204228081U | 公開(公告)日: | 2015-03-25 |
| 發明(設計)人: | 李維明 | 申請(專利權)人: | 廣東肇慶動力技研有限公司 |
| 主分類號: | G01B5/18 | 分類號: | G01B5/18 |
| 代理公司: | 廣州新諾專利商標事務所有限公司 44100 | 代理人: | 華輝;林玉芳 |
| 地址: | 526070 廣東省肇慶*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 密封 深度 | ||
技術領域
本實用新型涉及檢具領域,尤其涉及一種密封面深度檢具。
背景技術
密封面是泵類或發動機等設備常見的結構,密封面的加工精密度直接影響泵或發動機的工作情況。因此,在將泵類或發動機組裝前,需要對各個密封面進行測量并與標準值進行比較,以此判斷此密封面是否符合精度要求。密封面深度檢測屬于密封面檢測的一種?,F有的密封面深度檢測多為直接用尺子量取密封面與基準面的差值,但是這種測量方法受外界客觀因素干擾太多,人讀數的偏差、手的晃動或者其他因素都可能導致測量不準的情況發生,因此,需要一種可靠性高又簡單實用的密封面深度檢具。
實用新型內容
為了克服現有技術中存在的缺點和不足,本實用新型提供了一種密封面深度檢具。
本實用新型是通過以下技術方案實現的:一種密封面深度檢具,包括標準盤和檢測儀,所述標準盤包括底座以及設置在底座上的標準柱和標準塊,所述標準柱與標準塊的垂直高度差值與被檢密封面的深度相同;檢測儀包括檢測頭、套筒和輪廓盤,所述檢測頭設置在套筒內,檢測頭的一端伸出套筒,套筒垂直設置在輪廓盤上,所述輪廓盤的下端面能夠與被檢器件的貼合面配合;所述輪廓盤置于所述標準柱上,所述檢測頭與所述標準塊位置對應。
相對于現有技術,本實用新型的密封面深度檢具它通過將標準柱與標準塊的垂直高度差設計為與被檢密封面的深度相同,實現密封面深度測量的簡單化和標準化,便于快速準確地測量密封面深度,具有結構簡單,方便實用的特點。
進一步地,所述檢測儀還包括壓簧,所述壓簧設置在套筒內,所述檢測頭設置在套筒內的一端將壓簧頂緊在套筒內。
進一步地,還包括百分表,所述壓簧所在的套筒的一端設置有一百分表的安裝孔,所述百分表通過所述安裝孔與壓簧頂緊。
進一步地,所述標準盤上還設置有預定位柱,所述預定位柱的高度高于所述標準柱的高度,所述檢測儀的輪廓盤上設置有相對應的預定位孔。
進一步地,所述標準柱為三個,三個標準柱呈環形等距離分布。
進一步地,所述檢測儀還包括一手柄,所述手柄垂直設置在與套筒相對的輪廓盤的另一面上。
為了更好地理解和實施,下面結合附圖詳細說明本實用新型。
附圖說明
圖1是本實用新型的密封面深度檢具示意圖。
圖2是圖1所示的密封面深度檢具的主視圖。
圖3是圖1所示的密封面深度檢具俯視圖。
具體實施方式
請同時參閱圖1-圖3,圖1是本實用新型的密封面深度檢具示意圖,圖2是圖1所示的密封面深度檢具的主視圖,圖3是圖1所的示密封面深度檢具俯視圖。本實用新型的密封面深度檢具,包括標準盤10、檢測儀20和百分表30。百分表30安裝在檢測儀20上,檢測儀20放置在標準盤10上,通過標準盤10對百分表30進行校準。校準后,將檢測儀20移至被檢密封面上進行檢測。
具體地,標準盤10包括底座11以及設置在底座上的標準柱12、標準塊13和預定位柱14。標準柱12用于承放檢測儀20,標準柱12的數量和分布可以根據測量需求設置,本實施例優選地設置三個標準柱12,三個標準柱12呈環形等距離分布。標準塊13用于對百分表30進行校準,標準塊13設置在三個標準柱12之間。標準柱12與標準塊13的垂直高度差值與被檢密封面的深度相同。預定位柱14用于對檢測儀29進行預訂位,本實施例優選地設置兩個預定位柱14,兩個預定位柱14位于標準柱12之間。預定位柱14的高度高于標準柱13的高度。
進一步地,檢測儀20包括檢測頭21、套筒22、輪廓盤23、壓簧24和手柄26,套筒的頂端設置有安裝孔25。套筒22垂直設置在輪廓盤23上,檢測頭21和壓簧24設置在套筒22內,檢測頭21與標準塊13位置對應,檢測頭21的一端伸出套筒22,檢測頭21設置在套筒內的一端將壓簧24頂緊在套筒22內。輪廓盤23的下端面能夠與被檢器件的貼合面配合,檢測儀20的輪廓盤23上設置有與預定位柱14相對應的預定位孔。手柄26垂直設置在與套筒22相對的輪廓盤23的另一面上。
在對檢測儀20校準時,將百分表30安裝在安裝孔25上,將輪廓盤23置于標準柱12上,這樣,檢測頭21與標準塊13上表面貼合,通過調整套筒22內的壓簧24的變形來校準百分表30,校準百分表30刻度為零后便可將檢測儀20從標準盤10上移至被檢器件上。由于標準柱12與標準塊13的垂直高度差值設置為與被檢密封面的深度相同,因此校準以后的檢測頭21的頂端與輪廓盤23的下端面的距離就是被檢密封面的深度。
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