[實用新型]一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭有效
| 申請號： | 201420671898.0 | 申請日： | 2014-11-12 |
| 公開（公告）號： | CN204327684U | 公開（公告）日： | 2015-05-13 |
| 發明（設計）人： | 張黎源;張曉衛 | 申請（專利權）人： | 核工業理化工程研究院 |
| 主分類號： | F16B7/18 | 分類號： | F16B7/18 |
| 代理公司： | 天津市宗欣專利商標代理有限公司 12103 | 代理人： | 胡恩河 |
| 地址： | 300180 *** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 阻隔 射線 泄露 真空 法蘭 | ||
【權利要求書】：
1.一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭，包括通過螺栓（5）連接的左法蘭（1）和右法蘭（2），左法蘭（1）和右法蘭（2）中心均形成通孔，且左法蘭（1）通孔左側和右法蘭（2）通孔右側均連接有管道（4），其特征在于：所述左法蘭（1）相對右法蘭（2）的一側自內向外分別形成凸臺（6）和左法蘭散射槽（8），所述右法蘭（2相對左法蘭（1）的一側自內向外分別形成密封圈槽（10）、凹臺（7）和右法蘭散射槽（9），其中凹臺（7）與凸臺（6）相對應，右法蘭散射槽（9）與左法蘭散射槽（8）相對應；密封圈（3）置于密封圈槽（10）內，且與密封圈槽（10）緊配合。
2.根據權利要求1所述的一種可阻隔X射線泄露的真空法蘭，其特征在于：所述左法蘭（1）和右法蘭（2）之間的間隙S為1~5mm。
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