[實用新型]用于檢測基材的基材缺陷檢測裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420653472.2
• 申請日: 2014-11-04
• 公開（公告）號: CN204214788U
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許軒兢
• 申請（專利權(quán)）人: 香港商微覺視檢測技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種缺陷檢測裝置，尤其涉及一種通過判斷基材表面是否存在缺陷來達到提高基材檢測速度和準確性的基材缺陷檢測裝置。

背景技術(shù)

現(xiàn)今的產(chǎn)品大都以大量生產(chǎn)來降低生產(chǎn)成本，而大量生產(chǎn)的同時，檢測裝置如何能有效地檢測成為重要的課題之一，而在產(chǎn)品生產(chǎn)前，制作產(chǎn)品所需的材料大都需要先經(jīng)檢測，借此淘汰具有缺陷的材料，進而提高產(chǎn)品的優(yōu)良率且降低生產(chǎn)成本。

許多產(chǎn)品是以基板或基材制造生產(chǎn)，因此，基板或基材檢測對于生產(chǎn)的優(yōu)良率具有不可忽視的影響，其中，基板或基材的檢測常需要確認基板或基材的正反兩表面是否有缺陷，例如：凹陷、凸起、破損、擦傷、異物吸附或是基材密度不均等問題。

因此，為了提供質(zhì)量較佳的基板或基材，通常會通過人工進行目視檢測，通過將基板或基材設(shè)置于一輸送裝置上，并以人眼進行觀測，檢測這些基板或基材是否有瑕疵，并記錄這些瑕疵區(qū)域。然而，上述通過人眼進行檢測的方式，容易因為眼睛在長時間的觀測下而產(chǎn)生疲勞或誤判，開始產(chǎn)生基板或基材缺陷辨別率下降的情形，且對于單一產(chǎn)品的缺陷判斷標準也會不一致。此外，也由于是通過人眼進行檢測，因此基板或基材在輸送裝置上的速度也不能太快。進一步來說，若基板或基材的厚度越薄，缺陷越小時，人眼的辨識率可能會無法辨識。

因此，如何提供一種能夠?qū)⒏纳苹寤蚧谋砻嫒毕荼孀R率，同時以克服上述的缺陷，已經(jīng)成為該領(lǐng)域亟待解決的重要課題之一。

實用新型內(nèi)容

鑒于以上的問題，本實用新型提供一種借助基材上的瑕疵區(qū)域?qū)z測光源偏折投射至線性影像擷取單元的截取范圍中，來判斷基材表面是否有缺陷的存在，以達到提高基材檢測速度和準確性的基材缺陷檢測裝置。

為了達到上述的目的，本實用新型的其中一個實施方式是提供一種用于檢測基材的基材缺陷檢測裝置，其包括一光源模塊、一檢測模塊以及一控制模塊。所述光源模塊用于產(chǎn)生一照射在位于一檢測區(qū)域內(nèi)的所述基材上的檢測光源，所述光源模塊具有一第一發(fā)光面及一第二發(fā)光面，且所述第一發(fā)光面及所述第二發(fā)光面之間具有一暗區(qū)范圍。所述檢測模塊與所述光源模塊彼此相對應設(shè)置，所述檢測模塊包括一用于擷取位于所述檢測區(qū)域內(nèi)的所述基材的影像信息的線性影像擷取單元，其中所述線性影像擷取單元具有一等于或大于所述暗區(qū)范圍的截取范圍。所述控制模塊電性連接于所述檢測模塊，以接收所述檢測模塊所擷取到的所述影像信息，其中所述影像信息通過所述控制模塊的運算，以得到一位于所述基材上的瑕疵區(qū)域的一瑕疵信息。其中，所述第一發(fā)光面及所述第二發(fā)光面兩者其中之一通過所述瑕疵區(qū)域，以偏折投射在所述線性影像擷取單元的所述截取范圍中。

進一步地，所述光源模塊包括一第一發(fā)光單元、一第二發(fā)光單元及一定位座，所述定位座設(shè)置于所述第一發(fā)光單元及所述第二發(fā)光單元兩者的旁側(cè)，其中所述第一發(fā)光單元及所述第二發(fā)光單元分別具有所述第一發(fā)光面及所述第二發(fā)光面，所述第一發(fā)光單元及所述第二發(fā)光單元之間彼此間隔一預定距離，通過轉(zhuǎn)動所述定位座以界定出所述暗區(qū)范圍。

進一步地，所述光源模塊上設(shè)置有一遮光單元，以產(chǎn)生所述暗區(qū)范圍。

進一步地，通過調(diào)整所述線性影像擷取單元至所述基材之間的距離，以調(diào)整所述線性影像擷取單元的所述截取范圍的大小。

進一步地，通過調(diào)整所述光源模塊至所述基材之間的距離，以調(diào)整所述線性影像擷取單元的所述截取范圍投影在所述暗區(qū)范圍的大小。

進一步地，所述光源為線性光源。

進一步地，所述光源模塊設(shè)置于所述基材的一第一側(cè)邊，所述檢測模塊設(shè)置于所述基材的一第二側(cè)邊。

進一步地，所述線性影像擷取單元的所述截取范圍直接穿過所述基材而投影在所述光源模塊的所述暗區(qū)范圍上。

進一步地，所述光源模塊及所述檢測模塊都設(shè)置于所述基材的一第一側(cè)邊，所述光源模塊通過所述基材上的所述瑕疵區(qū)域，以反射所述檢測光源至所述線性影像擷取單元中。

進一步地，所述線性影像擷取單元的所述截取范圍投影在所述光源模塊的所述暗區(qū)范圍所投影在所述基材表面的范圍上。

本實用新型的有益效果可以在于，本實用新型的實施方式所提供的用于檢測基材的基材缺陷檢測裝置，能夠通過線性影像擷取單元所獲得的基材表面影像，來判斷基材表面是否有缺陷的存在。換言之，借助基材上的瑕疵區(qū)域?qū)z測光源偏折投射至線性影像擷取單元的截取范圍中，來判斷基材是否有缺陷的存在。

為了能更進一步了解本實用新型的特征和技術(shù)內(nèi)容，請參考以下有關(guān)本實用新型的詳細說明與附圖，然而附圖僅用于提供參考和說明，并非用來對本實用新型加以限制。

附圖說明