[實用新型]一種陣列基板、光柵、顯示面板及顯示設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420650511.3 | 申請日： | 2014-11-03 |
| 公開（公告）號： | CN204331201U | 公開（公告）日： | 2015-05-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 魏偉;武乃福;林家強 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/13 | 分類號： | G02F1/13;G02F1/1335;G09F9/313 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人： | 任嘉文 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 陣列 光柵 顯示 面板 設(shè)備 | ||
1.一種陣列基板，其特征在于，包括多個亞像素組，每一亞像素組包括：
用于顯示預設(shè)灰度的第一類亞像素組，與用于顯示多個視點圖像的第二類亞像素組，其中，第二類亞像素組位于第一類亞像素組的周圍，且部署在不同方向上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一類亞像素組包括：至少一個第一類亞像素單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述第二類亞像素組包括：用于顯示第一視點圖像的第一亞像素組、用于顯示第二視點圖像的第二亞像素組、用于顯示第三視點圖像的第三亞像素組、用于顯示第四視點圖像的第四亞像素組。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述第二類亞像素組位于第一類亞像素組的周圍，且部署在不同方向上，具體為：
所述第一亞像素組與所述第三亞像素組在垂直方向上與所述第一類亞像素組相鄰；所述第二亞像素組與所述第四亞像素組在水平方向上與所述第一類亞像素組相鄰。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述第一亞像素組包括：至少一個第一亞像素單元；
所述第二亞像素組包括：至少一個第二亞像素單元；
所述第三亞像素組包括：至少一個第三亞像素單元；
所述第四亞像素組包括：至少一個第四亞像素單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，當所述第一類亞像素組包括三個第一類亞像素單元時，所述第一亞像素組包括三個第一亞像素單元，所述第三亞像素組包括三個第三亞像素單元。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板，其特征在于，當所述第一類亞像素組包括三個第一類亞像素單元時，所述第二亞像素組包括三個第二亞像素單元，所述第四亞像素組包括三個第四亞像素單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，與第一亞像素組相鄰、與第二亞像素組也相鄰的亞像素單元和/或與第一亞像素組相鄰、與第四亞像素組也相鄰的亞像素單元為第一亞像素單元，與第三亞像素組相鄰、與第四亞像素組也相鄰的亞像素單元和/或與第三亞像素組相鄰、與第二亞像素組也相鄰的亞像素單元為第三亞像素單元；或者，
與第一亞像素組相鄰、與第二亞像素組也相鄰的亞像素單元和/或與第一亞像素組相鄰、與第四亞像素組也相鄰的亞像素單元為第一類亞像素單元，與第三亞像素組相鄰、與第四亞像素組也相鄰的亞像素單元和/或與第三亞像素組相鄰、與第二亞像素組也相鄰的亞像素單元為第一類亞像素單元。
9.一種光柵，其特征在于，所述光柵的開口區(qū)域與權(quán)利要求1至8任一項所述的陣列基板中的第一類亞像素組相對應。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光柵，其特征在于，所述光柵的開口區(qū)域包括，四邊形的開口區(qū)域和/或六邊形的開口區(qū)域和/或除去四邊形的四個角的開口區(qū)域。
11.一種顯示面板，其特征在于，該顯示面板包括：權(quán)利要求1至8任一項所述的陣列基板和位于所述陣列基板上方的權(quán)利要求9至10任一項所述的光柵。
12.一種顯示設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求11所述的顯示面板。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學；光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的
