[實用新型]方形烤盤和具有其的煎烤裝置

有效

• 申請號: 201420649551.6
• 申請日: 2014-10-31
• 公開（公告）號: CN204133281U
• 公開（公告）日: 2015-02-04
• 發明（設計）人: 邢鳳雷;王志剛;杜明輝;尹志楠;萬程
• 申請（專利權）人: 佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司;美的集團股份有限公司
• 主分類號: A47J37/06
• 分類號: A47J37/06;A47J37/10
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 賈玉姣

技術領域

本實用新型涉及煎烤機設備領域，尤其是涉及一種方形烤盤和具有其的煎烤裝置。

背景技術

相關技術中指出，具有方形烤盤的煎烤機在煎烤的過程中，烤盤的溫度場常常分布不均，致使位于烤盤不同位置處的食物產生成熟度不一致的問題，例如，烤盤中心的位置溫度偏高，烤盤邊緣的位置溫度偏低，使得位于烤盤中心處的食物的熟透程度與位于烤盤邊緣處的食物的熟透程度不一致，致使烤盤邊緣位置處的食物常出現成熟較慢、成熟不均勻、或者不熟的問題，從而延長了煎烤時間，而且，食物的上表面也常常出現不熟或者成熟不均勻的現象，尤其是在烙制薄餅的過程中，薄餅的上表面容易發白，不易上色，煎烤效果不好。另外，在煎烤的過程中，常常出現水分損失較大的問題，導致煎烤出的食物發干、口感偏硬。綜上所述，相關技術中的煎烤機存在食物受熱不均、煎烤時間較長、煎烤效果不好等問題。

實用新型內容

本實用新型旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本實用新型在于提出一種方形烤盤，所述方形烤盤可以縮短煎烤時間、提高食物成熟度的均勻性。

本實用新型還提出一種具有上述方形烤盤的煎烤裝置。

根據本實用新型第一方面的方形烤盤，所述方形烤盤的內表面上具有多個凸出部，所述凸出部的高度H1滿足：0.5mm≤H1≤1.5mm，所述多個凸出部之間限定出蒸汽通道。

根據本實用新型的方形烤盤，通過設置蒸汽通道，且限定凸出部的高度在0.5mm到1.5mm之間，高溫蒸汽可以在蒸汽通道內流動，從而加快了煎烤速度，縮短了煎烤時間，提高了食物的煎烤成熟均勻度，且便于相應烤盤的清洗。

具體地，所述多個凸出部呈多排多列排列。

具體地，所述多個凸出部呈環形陣列排列。

具體地，所述凸出部形成為棱柱或圓柱形狀。

具體地，所述凸出部形成為球形。

具體地，所述凸出部之間的距離D1滿足：2mm≤D1≤5mm。

根據本實用新型第二方面的煎烤裝置，包括：下烤盤；上烤盤，所述上烤盤可轉動地連接至所述下烤盤，且所述上烤盤與所述下烤盤之間限定出煎烤腔室，其中所述上烤盤和所述下烤盤的至少一個為根據本實用新型上述第一方面的方形烤盤。

根據本實用新型的煎烤裝置，通過設置上述第一方面的方形烤盤，從而提高了煎烤裝置的整體性能。

具體地，所述上烤盤和所述下烤盤在閉合狀態時所述煎烤腔室的高度為10-15mm。

具體地，所述上烤盤的內表面垂直地延伸出環形的鎖水圈，所述上烤盤和所述下烤盤在閉合狀態時所述鎖水圈的下端與所述下烤盤的內表面之間的距離小于等于7mm。

具體地，所述上烤盤的寬度S1和長度S2滿足：0.6≤S1/S2≤0.8。

本實用新型的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實用新型的實踐了解到。

附圖說明

圖1是根據本實用新型實施例的煎烤裝置的打開狀態示意圖；

圖2是圖1中所示的煎烤裝置的關閉狀態示意圖；

圖3是根據本實用新型一個實施例的下烤盤的示意圖；

圖4是沿圖3中A-A線的剖面圖；

圖5是根據本實用新型一個實施例的下烤盤的示意圖；

圖6是圖5中圈示的C部放大圖；

圖7是沿圖5中D-D線的剖面圖；

圖8是圖7中圈示的E部放大圖。

附圖標記：

100：煎烤裝置；101：煎烤腔室；

1：上烤盤；11：上煎烤壁面；12：上內側壁；13：鎖水圈；

2：下烤盤；21：下煎烤壁面；

???????????22：下內側壁；221：第一下內側壁；222：第二下內側壁；

?????????????????????????223：第三下內側壁；224：第四下內側壁；

???????????23：下固定槽；25：蒸汽通道；26：凸出部；

??3：發熱管；31：用于固定第一管段的下固定槽的中心線；

?????????????32：用于固定第二管段的下固定槽的中心線；

?????????????33：用于固定第三管段的下固定槽的中心線；

?????????????34：用于固定第四管段的下固定槽的中心線；

??4：鉸鏈結構；

200：食物。