[實用新型]煎烤裝置

有效

• 申請號: 201420649141.1
• 申請日: 2014-10-31
• 公開（公告）號: CN204133278U
• 公開（公告）日: 2015-02-04
• 發明（設計）人: 邢鳳雷;王志剛;杜明輝;尹志楠;萬程
• 申請（專利權）人: 佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司;美的集團股份有限公司
• 主分類號: A47J37/06
• 分類號: A47J37/06;A47J37/10
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 賈玉姣

技術領域

本實用新型涉及煎烤機設備領域，尤其是涉及一種煎烤裝置。

背景技術

相關技術中指出，具有方形烤盤的煎烤機在煎烤的過程中，常常出現水分損失較大的問題，導致煎烤出的食物發干、口感偏硬。另外，在煎烤的過程中，烤盤的溫度場常常分布不均，致使位于烤盤不同位置處的食物產生成熟度不一致的問題，例如，烤盤中心的位置溫度偏高，烤盤邊緣的位置溫度偏低，使得位于烤盤中心處的食物的熟透程度與位于烤盤邊緣處的食物的熟透程度不一致，致使烤盤邊緣位置處的食物常出現成熟較慢、成熟不均勻、或者不熟的問題，從而延長了煎烤時間。綜上所述，相關技術中的煎烤機存在食物受熱不均、煎烤時間較長、煎烤效果不好等問題。

實用新型內容

本實用新型旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本實用新型在于提出一種煎烤裝置，所述煎烤裝置可以有效地鎖住水分，提高食物的口感。

根據本實用新型的煎烤裝置，包括：下烤盤；上烤盤，所述上烤盤可轉動地連接至所述下烤盤，且所述上烤盤與所述下烤盤之間限定出煎烤腔室，所述上烤盤的內表面垂直地延伸出環形的鎖水圈，所述上烤盤和所述下烤盤在閉合狀態時所述鎖水圈的下端與所述下烤盤的內表面之間的距離小于等于7mm，所述上烤盤和所述下烤盤均為方形烤盤；發熱管，所述發熱管設在所述上烤盤和所述下烤盤內且盤繞設置。

根據本實用新型的煎烤裝置，通過將鎖水圈下端與下烤盤的內表面之間的距離控制在5mm以內，從而煎烤腔室內的水分可以有效地被鎖水圈鎖住，煎烤腔室內的食物不會太干、口感較好，從而提高了食物的煎烤效果，縮短了食物的煎烤時間。

具體地，所述發熱管的中心線與其所在的所述上烤盤和/或下烤盤的內側壁之間的最近距離不大于50mm。

具體地，所述上烤盤和所述下烤盤均為大體矩形烤盤。

具體地，所述發熱管在其所在的所述上烤盤和/或下烤盤內盤繞成外輪廓為大體矩形的形狀。

具體地，所述發熱管的中心線與其所在的所述上烤盤和/或下烤盤的四個內側壁之間的距離均相等。

具體地，所述上烤盤和/或下烤盤的內表面上形成有彎曲的蒸汽通道。

具體地，所述蒸汽通道形成為方螺旋形狀。

具體地，所述上烤盤和/或下烤盤的內表面上設有垂直延伸出的螺旋延伸的凸筋，所述蒸汽通道由所述凸筋之間限定出。

具體地，所述上烤盤和/或下烤盤的內表面上具有多個凸出部，所述多個凸出部之間限定出所述蒸汽通道。

具體地，所述多個凸出部呈多排多列排列、或呈環形陣列排列。

本實用新型的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實用新型的實踐了解到。

附圖說明

圖1是根據本實用新型實施例的煎烤裝置的打開狀態示意圖；

圖2是圖1中所示的煎烤裝置的關閉狀態示意圖；

圖3是根據本實用新型一個實施例的下烤盤的示意圖；

圖4是沿圖3中A-A線的剖面圖；

圖5是根據本實用新型一個實施例的下烤盤的示意圖；

圖6是沿圖5中B-B線的剖面圖；

圖7是根據本實用新型一個實施例的下烤盤的示意圖。

附圖標記：

100：煎烤裝置；101：煎烤腔室；

??1：上烤盤；11：上煎烤壁面；12：上內側壁；13：鎖水圈；

??2：下烤盤；21：下煎烤壁面；

?????????????22：下內側壁；221：第一下內側壁；222：第二下內側壁；

???????????????????????????223：第三下內側壁；224：第四下內側壁；

?????????????23：下固定槽；

?????????????24：凸筋；241：第一圈第一凸筋；242：第一圈第二凸筋；

???????????????????????243：第一圈第三凸筋；244：第一圈第四凸筋；

?????????????25：蒸汽通道；251：第一圈第一蒸汽通道段；

?????????????????252：第一圈第二蒸汽通道段；253：第一圈第三蒸汽通道段；

?????????????????254：第一圈第四蒸汽通道段；255：最后一圈第一蒸汽通道段；

?????????????????256：蒸汽通道出口；

?????????????26：凸出部；