[實用新型]光場成像系統

有效

• 申請號: 201420648037.0
• 申請日: 2014-11-03
• 公開（公告）號: CN204258928U
• 公開（公告）日: 2015-04-08
• 發明（設計）人: 覃政
• 申請（專利權）人: 北京蟻視科技有限公司
• 主分類號: H04N5/225
• 分類號: H04N5/225;G02B27/00
• 代理公司: 北京律恒立業知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11416
• 代理人: 顧珊;蔡倫

1.一種光場成像系統，包括：微透鏡陣列、光束引導單元、成像單元和圖像處理單元，其中：

微透鏡陣列，包括多個微透鏡單元，用于聚焦光束；

光束引導單元，用于將通過所述微透鏡陣列成像的光束進行引導，使得與所述光場成像系統的光軸之間夾角更大的光線通過所述微透鏡陣列透射到所述成像單元上；

成像單元，布置在所述微透鏡陣列的焦平面上，用于接收通過微透鏡陣列透射的光來感光成像；

圖像處理單元，用于將所述成像單元收集的電信號進行處理。

2.根據權利要求1所述的光場成像系統，其特征在于：所述光束引導單元包括遮罩，所述遮罩位于所述微透鏡陣列和所述成像單元之間，包括由不透光材料制成的多個筒狀結構子遮罩，用于引導和過濾光束；所述微透鏡陣列中的每個微透鏡單元均對應其中一個筒狀結構，所述遮罩一端的開口與微透鏡單元的邊緣密封連接，另一端開口連接到所述成像單元的對應區域上。

3.根據權利要求2所述的光場成像系統，其特征在于：所述子遮罩距離所述成像光軸越遠，所述子遮罩的中心軸線與所述成像光軸之間的夾角就越大。

4.根據權利要求1或2所述的光場成像系統，其特征在于：所述光束引導單元包括光折射單元，所述光折射單元位于所述微透鏡陣列相對于所述成像單元的另一側，用于將更大角度范圍內的光線折射后進入所述微透鏡陣列中。

5.根據權利要求4所述的光場成像系統，其特征在于：所述光折射單元選自平凹透鏡、雙凹透鏡、凸凹透鏡、折線式透鏡或偏轉棱鏡陣列中的至少一個或多個的組合。

6.根據權利要求4所述的光場成像系統，其特征在于：所述光折射單元是一側截面呈多段折線組合式從邊緣向中心凹入的折線式透鏡。

7.根據權利要求6所述的光場成像系統，其特征在于：所述折線式透鏡的每一段折線設計成與所述微透鏡陣列中的微透鏡單元的一個或一部分對應布置且設計其偏轉角度以形成大視角圖像。

8.根據權利要求5所述的光場成像系統，其特征在于：還包括圖像重現單元，所述圖像重現單元根據偏轉棱鏡陣列中的每個子棱鏡的偏轉角度來對應重現出各個子成像單元所成圖像中的各個光線的原始位置。

9.根據權利要求5所述的光場成像系統，其特征在于：所述偏轉棱鏡陣列中的各個子棱鏡的偏轉角度由邊緣向中心逐漸減小，且各個子棱鏡分立布置成對應于微透鏡陣列中的子透鏡中的一個或一部分布置且設計其偏轉角度以形成大視角圖像。

10.根據權利要求1所述的光場成像系統，其特征在于：所述系統還包括在所述微透鏡陣列和所述成像單元間設置的光闌單元，所述光闌單元的每個光闌與所述微透鏡陣列中的微透鏡單元一一對應。