[實用新型]脫硫除臭系統有效
| 申請號: | 201420635181.0 | 申請日: | 2014-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN204170610U | 公開(公告)日: | 2015-02-25 |
| 發明(設計)人: | 羅倫遠;趙西北;唐世兵;劉胤強 | 申請(專利權)人: | 重慶慶龍精細鍶鹽化工有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/78 | 分類號: | B01D53/78;B01D53/52;B01D53/50;C01B17/22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 脫硫 除臭 系統 | ||
技術領域
本實用新型屬于化工生產技術領域,特別是一種脫硫除臭系統。
背景技術
化工廠在產品的生產過程中會發生碳化反應,經碳化反應生成硫化氫氣體,硫化氫氣體直接排放到空氣中,會造成環境污染。硫化氫是無色、劇毒、酸性氣體。即使是低濃度的硫化氫,也會損傷人的嗅覺,用鼻子作為檢測這種氣體的手段是致命的。因此怎么處理排出的大量二氧化硫氣體成為一個亟待解決的問題。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種結構簡單的脫硫除臭系統,它能對二氧化硫氣體進行吸收,并將其再利用,進而轉化成工業原料。
本實用新型的目的是通過這樣的技術方案實現的,它包括脫硫塔、進氣管、氫氧化鈉溶液儲存罐、儲存柜和碳酸鈉過濾片,所述進氣管經脫硫塔下部通入脫硫塔,并且所述進氣管口朝脫硫塔頂部設置,所述氫氧化鈉溶液儲存罐的出口依次設置有閥門和泵,并經管道通入脫硫塔頂部,所述儲存柜經管道通入脫硫塔底部,所述碳酸鈉過濾片橫向設置在進氣管口下方的脫硫塔內。
硫化氫氣體通過進氣管進入到脫硫塔內,同時打開閥門和泵。由于硫化氫氣體的質量大于空氣,硫化氫氣體進入脫硫塔后向下沉降。氫氧化鈉溶液經泵從脫硫塔頂部進入脫硫塔內,再與進入到脫硫塔內的硫化氫氣體反應生成水和硫化鈉。橫向設置在脫硫塔內的碳酸鈉過濾片能過濾掉二氧化硫氣體,而硫化鈉則可以通過碳酸鈉過濾片,通過碳酸鈉過濾片的硫化鈉再經管道進入到儲存柜內儲存,再作為工業原料利用。
進一步,所述進氣管上設置有引風機。
進一步,所述脫硫塔頂部設置有排氣管。
由于采用了上述技術方案,本實用新型具有結構簡單的優點,它能對二氧化硫氣體進行吸收,并將其再利用,進而轉化成工業原料。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖。
圖中,1、脫硫塔;2、進氣管;3、氫氧化鈉溶液儲存罐;4、儲存柜;5、碳酸鈉過濾片;6、閥門;7、泵;8、引風機;9、排氣管。
具體實施方式
為了使本實用新型實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解,下面結合具體圖示,進一步闡述本實用新型。
如圖1所示,本實用新型包括脫硫塔1、進氣管2、氫氧化鈉溶液儲存罐3、儲存柜4和碳酸鈉過濾片5,所述進氣管2經脫硫塔1下部通入脫硫塔1,并且所述進氣管口朝脫硫塔1頂部設置,所述氫氧化鈉溶液儲存罐3的出口依次設置有閥門6和泵7,并經管道通入脫硫塔1頂部,所述儲存柜4經管道通入脫硫塔1底部,所述碳酸鈉過濾片5橫向設置在進氣管口下方的脫硫塔1內。
硫化氫氣體通過進氣管2進入到脫硫塔1內,同時打開閥門6和泵7。由于硫化氫氣體的質量大于空氣,硫化氫氣體進入脫硫塔1后向下沉降。氫氧化鈉溶液經泵從脫硫塔1頂部進入脫硫塔1內,再與進入到脫硫塔1內的硫化氫氣體反應生成水和硫化鈉。橫向設置在脫硫塔1內的碳酸鈉過濾片5能過濾掉二氧化硫氣體,而硫化鈉則可以通過碳酸鈉過濾片5,通過碳酸鈉過濾片5的硫化鈉再經管道進入到儲存柜4內儲存,再作為工業原料利用。
如圖1所示,所述進氣管2上設置有引風機8。硫化氫氣體通過進氣管2進入到脫硫塔1內,由于硫化氫氣體的質量大于空氣,硫化氫氣體進入脫硫塔1后向下沉降。氫氧化鈉溶液經泵7從脫硫塔1頂部進入脫硫塔1內,與硫化氫氣體反應生成水和硫化鈉。橫向設置在脫硫塔1內的碳酸鈉過濾片5能過濾掉二氧化硫氣體,而硫化鈉則可以通過碳酸鈉過濾片5。當氫氧化鈉溶液從脫硫塔1頂部進入脫硫塔1內與硫化氫氣體反應生成水和硫化鈉時,會有多余的氫氧化鈉溶液直接通過碳酸鈉過濾片5而沒有與硫化氫氣體發生反應,造成了浪費。設置在進氣管2上的引風機8能將硫化氫氣體送到脫硫塔1頂部,與從脫硫塔1頂部進入脫硫塔1內的氫氧化鈉溶液充分反應,減少浪費。
如圖1所示,所述脫硫塔1頂部設置有排氣管9。引風機8將硫化氫氣體送到脫硫塔1頂部,與從脫硫塔1頂部進入脫硫塔1內的氫氧化鈉溶液充分反應,而被引風機8送去脫硫塔1內的硫化氫氣體會越來越多,脫硫塔1內的壓力會越來越大,會對硫化氫氣體和氫氧化鈉溶液進入到脫硫塔1內的流暢性產生不良影響。設置在脫硫塔1頂部的排氣管9能緩解脫硫塔1內的壓力,保證硫化氫氣體和氫氧化鈉溶液進入到脫硫塔1內的流暢性,保證硫化氫氣體與氫氧化鈉溶液正常反應。
以上僅為本實用新型的實施方式,并非因此限制本實用新型的專利范圍,凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構,直接或間接運用在其他相關的技術領域,均同理在本實用新型的專利保護范圍之內。
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