[實用新型]柔性拋光磨粒群動態力鏈觀測裝置

有效

• 申請號: 201420631443.6
• 申請日: 2014-10-28
• 公開（公告）號: CN204286652U
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 曾晰;計時鳴;潘燁;金明生;張利
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: G01L1/24
• 分類號: G01L1/24
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司 33201
• 代理人: 王兵;黃美娟

1.柔性拋光磨粒群動態力鏈觀測裝置，其特征在于：包括圖像處理裝置和顆粒控制裝置，所述的圖像處理裝置包括光源發生器、光源采集器、數據分析儀，所述的光源發生器位于觀測區最低端，并且光源發生器發射的光源穿過下偏振光器指向位于由下偏振光器和上偏振光器組成的觀測區之間的顆粒控制裝置；所述的顆粒控制裝置的上表面覆蓋透明擋板；所述的光源采集器位于上偏振光器的正上方，并且光源采集器的光源采集視野覆蓋通過上偏振光器透射出的光源；所述的數據分析儀的數據輸入端與所述的光源采集器的數據輸出端相連、所述的數據分析儀的數據信號輸出端與數據分析儀的顯示屏連接；

所述的顆粒控制裝置包括透明的上滑塊、透明的下滑塊、用于容納光彈顆粒的容納腔，所述的下滑塊配有應力傳感器和位移傳感器，所述的應力傳感器的數據輸出端和位移傳感器的數據輸出端分別與所述的數據分析儀相應的數據端連接。

2.如權利要求1所述的柔性拋光磨粒群動態力鏈觀測裝置，其特征在于：腔體包括上擋板、下擋板、左滑動擋板和右滑動擋塊，所述的上擋板固定在上滑塊內，所述的下擋板固定在下滑塊內，所述的上擋板分別通過左滑動擋板和右滑動擋塊與所述的下擋板絞接，四個擋板以密封的形式約束光彈顆粒處于觀測區的中心，并且通過所述的上擋板和所述的下擋板之間的相對位移實現光彈顆粒內部力學信息的變化，所述的上滑塊和所述的下滑塊分別通過上擋板和下擋板實現二者之間的相對位移。

3.如權利要求2所述的柔性拋光磨粒群動態力鏈觀測裝置，其?特征在于：所述的上擋板和所述的下擋板相互平行。

4.如權利要求1所述的柔性拋光磨粒群動態力鏈觀測裝置，其特征在于：所述的光源采集器為高分辨率相機。

5.如權利要求1所述的柔性拋光磨粒群動態力鏈觀測裝置，其特征在于：所述的數據分析儀采用彩色梯度算法獲取光彈顆粒力學信息，從而獲得相應的力鏈分布圖。

6.如權利要求1所述的柔性拋光磨粒群動態力鏈觀測裝置，其特征在于：所述的光源發生器采用AOC-193FW，并且發射的光源直徑為19英寸。