[實用新型]化學機械拋光裝置

有效

• 申請號: 201420630427.5
• 申請日: 2014-10-29
• 公開（公告）號: CN204277741U
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 張海龍;靳愛軍;王紅艷
• 申請（專利權）人: 安陽方圓研磨材料有限責任公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;H01L21/304
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及化學機械拋光的技術領域，更具體地說，本實用新型涉及一種化學機械拋光裝置。

背景技術

化學機械平坦化（CMP）是光學、半導體以及其它電子器件制造工藝中的常用技術，使用化學腐蝕及機械力對加工過程中的玻璃基片、硅晶圓或其它襯底材料進行平坦化處理。在常規的CMP工藝中，待拋光的壓板被固定在載體組件上，并使襯底與CMP工藝中的拋光層接觸并提供受控的壓力，同時使拋光漿料在拋光層表面流動。在設計拋光層時，需要考慮的主要因素有拋光漿料在拋光層上的分布，新鮮拋光漿料進入拋光軌跡的流動，拋光漿料從拋光軌跡的流動，以及流過拋光區域基本未被利用的拋光漿料的量等等。為了減少基本未被利用的拋光漿料的量以及提高拋光效率和質量，在現有技術中，需要在拋光層表面設計各種圖案，然而本領域的技術人員都知道拋光速率、拋光漿料消耗以及拋光效果等很難兼得，現有技術中也公開了多種改進結構以期降低拋光漿料消耗并使得拋光漿料在拋光層上的保持時間最長的結構和圖案，然而需要在保證拋光速率、質量的基礎上，進一步降低拋光層上拋光漿料的未利用量，減少拋光漿料的浪費。

實用新型內容

為了解決現有技術中的上述技術問題，本實用新型的目的在于提供一種化學機械拋光裝置。

為了實現上述目的，本實用新型采用了以下技術方案：

一種化學機械拋光裝置，包括壓板和拋光層，所述壓板具有承壓面和接觸面；其特征在于：所述拋光層具有在拋光漿料存在的條件下對基片表面進行拋光的拋光面，以及與所述壓板接觸面相粘結的非拋光面；所述拋光層包括從所述拋光層的拋光面延伸至所述壓板承壓面的中心通孔，與所述中心通孔同心并且通過十字通道連通的環形凹槽，從所述環形凹槽向所述拋光面邊緣延伸的輻射凹槽；其中，在所述壓板上具有與所述中心通孔連通的研磨漿料進口。

其中，所述環形凹槽的深度大于所述輻射凹槽的深度。

其中，所述環形凹槽與所述輻射凹槽的橫截面為U形、V形、長方形或半圓形。

其中，所述環形凹槽與所述輻射凹槽的寬度為0.2~1.2?mm。

其中，所述壓板和所述拋光層為圓盤狀。

其中，所述拋光層的直徑為50~800?mm，并且所述拋光層的厚度為1.5~5.0?mm。

其中，所述壓板的直徑大于或等于所述拋光層的直徑。

與現有技術相比，本實用新型所述的化學機械拋光裝置具有以下有益效果：

本實用新型所述的化學機械拋光裝置，可以通過中心通孔給所述拋光裝置的拋光面補充拋光漿料，并且通過環形凹槽和輻射凹槽的設置不僅提高了拋光漿料的有效使用率，而且有利于減少拋光基片（玻璃、硅晶圓以及金屬基片等）中心區域以及周邊區域拋光量的偏差，不僅保證了適當的拋光速率，而且有利于減少拋光表面的劃痕數量；另外，由于外界的空氣也可以從所述中心通孔進入到拋光基片與拋光層的界面中，從而有利于拋光基片的轉移。

附圖說明

圖1為實施例1所述化學機械拋光裝置橫截面的結構示意圖；

圖2為實施例1所述化學機械拋光裝置的拋光面的結構示意圖。

具體實施方式

以下將結合具體實施例對本實用新型所述的化學機械拋光裝置做進一步的闡述，以幫助本領域的技術人員對本實用新型的實用新型構思、技術方案有更完整、準確和深入的理解。

實施例1