[實用新型]一種具有增強磁場功能的滅弧室結構有效
| 申請號： | 201420627661.2 | 申請日： | 2014-10-28 |
| 公開（公告）號： | CN204144201U | 公開（公告）日： | 2015-02-04 |
| 發明（設計）人： | 丁國輝;陸俊謙 | 申請（專利權）人： | 浙江天正電氣股份有限公司 |
| 主分類號： | H01H73/18 | 分類號： | H01H73/18 |
| 代理公司： | 溫州金甌專利事務所(普通合伙) 33237 | 代理人： | 黃肇平 |
| 地址： | 325604 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 增強 磁場 功能 滅弧室 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種具有增強磁場功能的滅弧室結構，包括滅弧室組件（1）、靜觸頭組件（2）、隔離罩（3），所述的隔離罩（3）上還設有若干滅弧柵片（4），其特征在于，所述的靜觸頭組件（2）內設有第一導磁體（5），所述的第一導磁體（5）上設有第一卡接頭（51），所述的的隔離罩（3）兩側還設有第二導磁體（6）。
2.根據權利要求1所述的一種具有增強磁場功能的滅弧室結構，其特征在于，所述的靜觸頭組件（2）上設有U型安裝槽（21），所述的U型安裝槽（21）上方還設有安裝孔（22），所述的第一導磁體（5）通過第一卡接頭（51）卡接在安裝孔（22）內與靜觸頭組件（2）卡接連接。
3.根據權利要求1所述的一種具有增強磁場功能的滅弧室結構，其特征在于，所述的隔離罩（3）兩側設有安裝槽（31），所述的第二導磁體（6）卡接在安裝槽（31）內。
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