[實用新型]一種卷對卷薄帶表面離子拋光動態裝置

有效

• 申請號: 201420626901.7
• 申請日: 2014-10-28
• 公開（公告）號: CN204171801U
• 公開（公告）日: 2015-02-25
• 發明（設計）人: 蔡傳兵;劉志勇;郭艷群;陸齊
• 申請（專利權）人: 上海上創超導科技有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00
• 代理公司: 上海浦東良風專利代理有限責任公司 31113
• 代理人: 張勁風

技術領域

本實用新型涉及一種離子拋光裝置，特別涉及一種卷對卷薄帶表面離子拋光動態裝置。

背景技術

連續生產基底表面粗糙度極低的金屬長帶或者非金屬長帶，例如，高溫超導涂層導體基帶，通常利用Ar離子拋光機，對高溫超導涂層導體基帶進行拋光，但是拋光室很難達到高真空，導致拋光效果不理想。

發明內容

本實用新型的目的是提供一種卷對卷薄帶表面離子拋光動態裝置，主要解決拋光室很難達到高真空，導致高溫超導涂層導體基帶拋光效果不理想的技術問題。

本實用新型的技術方案為：一種卷對卷薄帶表面離子拋光動態裝置，包括依次連通的放卷室、收卷室、離子拋光室，所述離子拋光室內設置Ar離子拋光機，離子拋光室通過管路外接抽氣泵組，其特征是在離子拋光室兩側設有與之連通的級差真空室，所述級差真空室通常設有2-5級，即分割成依次連通的2-5個腔室，每個腔室通過管路聯通抽氣泵組。

本實用新型的有益效果是：放卷盤和收卷盤可以放在一個大氣壓下，通過級差式真空，達到拋光室的高真空。該方式的優點是利于連續生產，換盤時不需要對拋光室放氣。可以將薄帶表面的粗糙度降低至1納米以下。

附圖說明

圖1為本實用新型結構示意圖。

圖中：1-放卷室，2-級差真空室，3-離子拋光室，4-收卷室，5-抽氣泵組，6-Ar離子拋光機。

具體實施方式

參照圖1，一種卷對卷薄帶表面離子拋光動態裝置，包括依次連通的放卷室1、收卷室4、離子拋光室3，所述離子拋光室3內設置Ar離子拋光機6，離子拋光室3通過管路外接抽氣泵組5，在離子拋光室3兩側設有與之連通的級差真空室2，所述級差真空室通常設有2-5級，即分割成依次連通的2-5個腔室，本實施例為3級，每個腔室通過管路聯通抽氣泵組5。薄帶可以為不銹鋼帶、哈氏合金帶、Ni-W合金帶等各種金屬薄帶，或者附著有非金屬薄膜的金屬帶，以及非金屬帶。