[實(shí)用新型]大功率半導(dǎo)體芯片的封裝組件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420626280.2 | 申請(qǐng)日: | 2014-10-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204144238U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-02-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 季興橋;陸吟泉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第二十九研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L23/06 | 分類號(hào): | H01L23/06;H01L23/373 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214 | 代理人: | 錢成岑 |
| 地址: | 610036 四川*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 大功率 半導(dǎo)體 芯片 封裝 組件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種電子元器件封裝領(lǐng)域,特別是一種大功率半導(dǎo)體芯片的封裝組件。
背景技術(shù)
大功率半導(dǎo)體芯片在應(yīng)用時(shí)對(duì)封裝的散熱要求高,同時(shí)要求封裝材料的熱膨脹系數(shù)比較低。而傳統(tǒng)的AlSiC(鋁碳化硅)、銅、鉬銅、鎢銅等金屬都無(wú)法同時(shí)滿足散熱和密封要求,不能兼顧大功率半導(dǎo)體芯片封裝后的散熱、熱膨脹、氣密性。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的發(fā)明目的在于:針對(duì)上述存在的問(wèn)題,提供一種大功率半導(dǎo)體芯片的封裝組件,能夠解決大功率半導(dǎo)體芯片封裝后,散熱、熱膨脹、氣密性不能兼顧的問(wèn)題。
本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是這樣的:提供一種大功率半導(dǎo)體芯片的封裝組件,所述封裝組件包括硅鋁盒體、金錫焊料片、金剛石銅熱沉塊、錫鉛焊料片、大功率半導(dǎo)體芯片、蓋板、低頻連接器和射頻連接器,所述硅鋁盒體底部開(kāi)有腔槽,所述金剛石銅熱沉塊位于所述腔槽中,并通過(guò)所述錫鉛焊料片與所述硅鋁盒體焊接,所述大功率半導(dǎo)體芯片位于所述腔槽上方,并通過(guò)所述金錫焊料片焊接在所述金剛石銅熱沉塊上,所述蓋板蓋合所述硅鋁盒體,并通過(guò)激光封焊與所述硅鋁盒體焊接,所述低頻連接器和所述射頻連接器焊接在所述硅鋁盒體的相對(duì)兩側(cè)。
優(yōu)選地,所述腔槽貫穿所述硅鋁盒體底部,所述金剛石銅熱沉塊包括頭部和端部,所述頭部的剖面尺寸小于所述端部的剖面尺寸,所述腔槽為T型槽,所述金剛石銅熱沉塊的頭部置于所述腔槽中,所述金剛石銅熱沉塊的端部連接所述頭部的端面通過(guò)所述錫鉛焊料片與所述硅鋁盒體焊接。
優(yōu)選地,所述腔槽位于硅鋁盒體底部但并不貫穿所述硅鋁盒體底部,所述錫鉛焊料片設(shè)置在所述硅鋁盒體底部,所述金剛石銅熱沉塊設(shè)置在所述錫鉛焊料片上,并通過(guò)所述錫鉛焊料片焊接在所述腔槽內(nèi)。
綜上所述,由于采用了上述技術(shù)方案,本實(shí)用新型的有益效果是:通過(guò)采用金剛石銅熱沉塊作為熱沉散熱,從而能夠解決大功率半導(dǎo)體芯片封裝后,散熱、熱膨脹、氣密性不能兼顧的問(wèn)題,可以大幅度提高大功率半導(dǎo)體芯片的散熱效率和可靠性。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型大功率半導(dǎo)體芯片的封裝組件一種實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實(shí)用新型大功率半導(dǎo)體芯片的封裝組件另一種實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖,對(duì)本實(shí)用新型作詳細(xì)的說(shuō)明。
為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型,并不用于限定本實(shí)用新型。
本實(shí)用新型提供的封裝組件包括硅鋁盒體1、金錫焊料片2、金剛石銅熱沉塊3、錫鉛焊料片4、大功率半導(dǎo)體芯片5、蓋板6、低頻連接器7和射頻連接器8,硅鋁盒體1底部開(kāi)有腔槽11,金剛石銅熱沉塊3位于腔槽11中,并通過(guò)錫鉛焊料片4與硅鋁盒體1焊接,大功率半導(dǎo)體芯片5位于腔槽11上方,并通過(guò)金錫焊料片2焊接在金剛石銅熱沉塊3上,蓋板6蓋合硅鋁盒體1,并通過(guò)激光封焊與硅鋁盒體1焊接,低頻連接器7和射頻連接器8焊接在硅鋁盒體1的相對(duì)兩側(cè)。
本實(shí)用新型的封裝組件在具體應(yīng)用時(shí),具有內(nèi)嵌式和外嵌式兩種封裝方式。
參見(jiàn)圖1,是本實(shí)用新型大功率半導(dǎo)體芯片的封裝組件一種實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施例的封裝組件采用外嵌式的封裝方式。其中,腔槽11貫穿硅鋁盒體1底部,金剛石銅熱沉塊3包括頭部和端部,頭部的剖面尺寸L小于端部的剖面尺寸M,腔槽11為T型槽,金剛石銅熱沉塊3的頭部置于腔槽11中,金剛石銅熱沉塊3的端部連接頭部的端面通過(guò)錫鉛焊料片4與硅鋁盒體1焊接。
如果采用外嵌式的封裝方式,則封裝流程如下:
對(duì)硅鋁盒體1、金錫焊料片2、金剛石銅熱沉塊3和錫鉛焊料片4、進(jìn)行超聲波清洗;
在氣氛爐中采用金錫焊接低頻連接器7和射頻連接器8;
采用氦氣質(zhì)譜儀對(duì)封裝組件進(jìn)行檢漏;
將大功率半導(dǎo)體芯片5通過(guò)金錫焊料片2焊接在金剛石銅熱沉塊3上,焊接完成后通過(guò)X-RAY檢測(cè)焊接空洞;
將金剛石銅熱沉塊3的端部連接頭部的端面通過(guò)錫鉛焊料片4與硅鋁盒體1上,焊接完成后通過(guò)X-RAY檢測(cè)焊接空洞;
再次采用氦氣質(zhì)譜儀對(duì)封裝組件進(jìn)行檢漏;
在硅鋁盒體1上安裝其他元器件;
調(diào)試封裝組件的電氣性能;
在真空烘箱中烘烤,并通過(guò)激光封焊將蓋板6與硅鋁盒體1焊接;
采用壓氦法檢測(cè)封裝組件的氣密性能。
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