[實用新型]一種方便定位和操作的模具

有效

• 申請號: 201420623792.3
• 申請日: 2014-10-27
• 公開（公告）號: CN204276900U
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 馬廣興
• 申請（專利權）人: 蘇州廣型模具有限公司
• 主分類號: B22F3/03
• 分類號: B22F3/03;B22F5/00
• 代理公司: 北京瑞思知識產權代理事務所(普通合伙) 11341
• 代理人: 袁紅紅

技術領域

本實用新型涉及模具領域，特別是涉及一種方便定位和操作的模具。

背景技術

磁產品行業，一般采用磁性較高的釹鐵硼磁體材料制作磁性產品，現有技術中，大部分采用模具來成型所需要的產品。例如，在加工橫截面成“凸”字型的產品時，需要將釹鐵硼粉末加到帶有與產品形狀相配的型腔的模具當中，等產品成型后，將產品從模具當中取出。由于現有的模具是一體的，不存在公母模，因此需要將產品從模具中敲出來。這給作業人員帶來很大的不便，也容易損壞產品。

公開號為CN?202114258?U的中國實用新型專利，其公開了一種模具，包括公模和母模，方便取出產品，但是由于公模和母模的配合面是光滑表面，所以其不易定位，造成加工出來的產品在公模和母模的配合處易產生裂紋，而且其使用的公模和母模的外表面都是光滑面，操作人員在操作時不易拿握，容易打滑，摔壞產品。

實用新型內容

本實用新型主要解決的技術問題是：針對現有技術的不足，提供一種方便定位和操作的模具，設計合理，結構簡單，方便使用，能夠提高模具的定位準確度，提高產品取出速度，從而提高加工效率和產品精度。

為解決上述技術問題，本實用新型采用的一個技術方案是：提供一種方便定位和操作的模具，包括：公模和母模，所述公模和所述母模配合形成一產品型腔，所述公模在與所述母模的兩側配合面上包含有對稱設置的若干定位銷，所述母模在與所述公模的兩側配合面上包含有對稱設置的若干定位孔，所述定位孔與所述定位銷相配合，且所述公模和所述母模的兩側外表面上分別包含有若干凹槽。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述公模在與所述母模的兩側配合面上包含有對稱設置的至少兩排定位銷，所述母模在與所述公模的兩側配合面上包含有對稱設置的至少兩排定位孔，所述定位孔與所述定位銷相配合。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述公模和所述母模的兩側外表面上分別包含有至少兩個凹槽。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述凹槽的深度為0.5-1.5mm。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述凹槽的形狀契合人體手指弧度。

本實用新型的有益效果是：通過在公模與母模相配合的面上采用定位銷和定位孔的結構定位，使得模具定位準確度高，同時在公模和母模的兩側面上開設契合人體手指弧度的凹槽，方便操作人員的手指拿握，有利于公模和母模的配合和分離，設計合理，結構簡單，方便使用，可提高產品取出速度，提高加工效率和產品精度。

附圖說明

圖1是本實用新型一種方便定位和操作的模具的結構示意圖；

圖2是圖1所示模具的裝配示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、公模，11、定位銷，2、母模，21、定位孔，3、產品型腔，41、公模外表面凹槽，42、母模外表面凹槽。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖1和圖2，本實用新型實施例包括：

一種方便定位和操作的模具，包括：公模1和母模2，所述公模1和所述母模2配合形成一產品型腔3，所述產品型腔3的結構（公模1和母模2配合形成的內部空腔結構）同產品結構，所述公模1在與所述母模2相配合的兩側配合面上包含有對稱設置的至少兩排定位銷11，優選為每個配合側面上有兩個定位銷11，對稱設置，所述母模2在與所述公模1相配合的兩側配合面上包含有對稱設置的至少兩排定位孔21，優選為每個配合側面上有兩個定位孔21，對稱設置，所述定位孔21與所述定位銷11相配合，完成公模1和母模2的定位，且所述公模1的每側外表面上包含有至少兩個公模外表面凹槽41，所述母模2的每側外表面上同樣包含有至少兩個母模外表面凹槽42，所述公模外表面凹槽41和所述母模外表面凹槽42的形狀契合人體手指弧度，方便操作人員的手指拿握。

所述凹槽的深度為0.5-1.5mm，優選為1mm。

本實用新型揭示了一種方便定位和操作的模具，通過在公模與母模相配合的面上采用定位銷和定位孔的結構定位，使得模具定位準確度高，同時在公模和母模的兩側面上開設契合人體手指弧度的凹槽，方便操作人員的手指拿握，有利于公模和母模的配合和分離，設計合理，結構簡單，方便使用，可提高產品取出速度，提高加工效率和產品精度。

以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。