[實用新型]一種真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號： | 201420613819.0 | 申請日： | 2014-10-23 |
| 公開（公告）號： | CN204196373U | 公開（公告）日： | 2015-03-11 |
| 發明（設計）人： | 李賀儒 | 申請（專利權）人： | 臺玻華南玻璃有限公司 |
| 主分類號： | B32B9/04 | 分類號： | B32B9/04;B32B15/00;B32B17/00 |
| 代理公司： | 廣州市紅荔專利代理有限公司 44214 | 代理人： | 張文 |
| 地址： | 523160 廣東省東莞*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空 磁控濺射 可鋼雙銀低 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
1.一種真空磁控濺射可鋼高透低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片（1）、第一介質層（2）、第一減反射層（3）、第一保護層（4）、第一功能層銀層（5）、第二保護層（6）、第二減反射層（7）、第二介質層（8）、第三減反射層（9）、第三保護層（10）、第三功能層銀層（11）、第四保護層（12）、第四減反射層（13）、第三介質層（14），
其中，玻璃基片（1）為載體，第一介質層（2）、第一減反射層（3）、第一保護層（4）、第一功能層銀層（5）、第二保護層（6）、第二減反射層（7）、第二介質層（8）、第三減反射層（9）、第三保護層（10）、第三功能層銀層（11）、第四保護層（12）、第四減反射層（13）、第三介質層（14）為順次濺射在玻璃基片（1）上的納米級膜層，
第一保護層（4）和第二保護層（6）設于第一功能層銀層（5）兩側，第三保護層（10）第四保護層（12）設于第三功能層銀層（11）兩側，
第一減反射層（3）、第二減反射層（7）、第三減反射層（9）、第四減反射層（13）為實現高可見光透光率的重要膜層。
2.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的玻璃基片（1）厚度范圍為3~19毫米。
3.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的第一保護層（4）、第二保護層（6）、第三保護層（10）、第四保護層（12）成分為鎳鉻合金。
4.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述第一介質層（2）、第二介質層（8）、第三介質層（14）成分為氮化硅。
5.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述第一減反射層（3）、第二減反射層（7）、第三減反射層（9）、第四減反射層（13）成分高純氧化鋅鋁。
6.根據權利要求1所述的真空磁控濺射可鋼雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于采用了真空磁控濺射方式濺射出均勻致密的納米級銀層。
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