[實(shí)用新型]溝槽形貌監(jiān)控結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420612904.5
• 申請(qǐng)日: 2014-10-21
• 公開（公告）號(hào): CN204167313U
• 公開（公告）日: 2015-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊彥濤;趙金波;江宇雷;楊雪;鄒光祎;鐘榮祥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 杭州士蘭集成電路有限公司
• 主分類號(hào): H01L23/544
• 分類號(hào): H01L23/544;H01L21/66
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種溝槽形貌監(jiān)控結(jié)構(gòu)，用于監(jiān)控產(chǎn)品溝槽的傾斜度，其特征在于，所述溝槽形貌監(jiān)控結(jié)構(gòu)包括形成于半導(dǎo)體襯底中的第一溝槽和第二溝槽，其中，形成所述第二溝槽的掩膜板圖形與形成產(chǎn)品溝槽的掩膜板圖形相同，形成所述第一溝槽的掩膜板圖形的寬度大于形成所述第二溝槽的掩膜板圖形的寬度，所述第一溝槽和第二溝槽采用相同的刻蝕程序形成。

2.如權(quán)利要求1所述的溝槽形貌監(jiān)控結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一溝槽的底部寬度大于臺(tái)階測試儀的最小探針直徑，所述溝槽形貌監(jiān)控結(jié)構(gòu)的測量窗口大于臺(tái)階測試儀的最小探針直徑與兩倍的最小步距之和。