[實(shí)用新型]一種用于坩堝噴涂旋轉(zhuǎn)加熱臺的新型側(cè)板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420595922.7
• 申請日: 2014-10-16
• 公開（公告）號: CN204134836U
• 公開（公告）日: 2015-02-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 彭秀花;陶亞明;劉興翀;林洪峰
• 申請（專利權(quán)）人: 天威新能源控股有限公司
• 主分類號: B05C9/14
• 分類號: B05C9/14;B05C11/00
• 代理公司: 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220
• 代理人: 劉哲源

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種用于坩堝噴涂旋轉(zhuǎn)加熱臺的側(cè)板，尤其涉及一種使得坩堝側(cè)壁溫度均勻的坩堝噴涂旋轉(zhuǎn)加熱臺的新型側(cè)板。

背景技術(shù)

目前，光伏電池以多晶為主。定向凝固技術(shù)作為多晶太陽能硅片的制備方法被廣泛應(yīng)用。在定向凝固中，所用的坩堝在裝料前需用純水將粉末噴料氮化硅噴涂在石英坩堝表面，然后在加熱的作用下使液態(tài)氮化硅均勻的吸附在坩堝表面以形成粉狀涂層。粉末涂層使得坩堝在高溫下與硅隔離。因此，粉末涂層的使用既避免了液態(tài)硅與坩堝反應(yīng)而導(dǎo)致坩堝破裂，也保證了冷卻后的硅錠脫落的完整性。

在噴涂過程中，噴涂溫度需要根據(jù)不同氮化硅粉的最佳溫度而定，噴涂時，溫度過低容易導(dǎo)致坩堝涂層脫落、起泡等，溫度過高又會使氮化硅液霧在沒有著附坩堝前就已干燥產(chǎn)生粉末。因此，坩堝加熱控制對硅錠質(zhì)量至關(guān)重要。

現(xiàn)目前，利用坩堝噴涂旋轉(zhuǎn)加熱臺對坩堝進(jìn)行加熱一般都是在坩堝的底部和側(cè)壁分別使用一個加熱控制裝置。但由于坩堝上半部分與空氣接觸較近，周圍環(huán)境溫度較低，使得坩堝在加熱過程中很容易出現(xiàn)側(cè)壁上半部分升溫較慢或噴涂過程中降溫較快的現(xiàn)象。因此，在坩堝側(cè)壁上只使用一個加熱控制裝置在一定范圍內(nèi)會影響坩堝側(cè)壁溫度的均勻性。

實(shí)用新型內(nèi)容

為解決因坩堝側(cè)壁溫度不均而導(dǎo)致坩堝涂層出現(xiàn)起泡、掉粉等現(xiàn)象，本實(shí)用新型特提供一種用于坩堝噴涂旋轉(zhuǎn)加熱臺的新型側(cè)板。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

一種用于坩堝噴涂旋轉(zhuǎn)加熱臺的新型側(cè)板，包括加熱板和加熱控制系統(tǒng)，所述加熱板包括四個側(cè)板和一個底板，其中側(cè)板和底板構(gòu)成上表面開口的長方體空腔結(jié)構(gòu)，所述側(cè)板由上加熱板和下加熱板組成；還包括控制上加熱板的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)A，控制下加熱板的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)B以及控制底板的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)C。

進(jìn)一步，所述四個側(cè)板中的下加熱板的高度相同。

進(jìn)一步，所述加熱板包括四個側(cè)板和一個底板，其中側(cè)板和底板構(gòu)成上表面開口的長方體空腔結(jié)構(gòu)，所述側(cè)板由上加熱板和下加熱板組成；還包括控制上加熱板的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)A，控制下加熱板的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)B以及控制底板的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)C；所述側(cè)板的高度大于放置在長方體空腔結(jié)構(gòu)中的坩堝深度。

在本實(shí)用新型中，側(cè)板由上加熱板和下加熱板組成，溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)A和溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)B分別控制上加熱板和下加熱板，因此通過分別控制上加熱板和下加熱板可保證坩堝的側(cè)壁溫度均勻，避免因坩堝側(cè)壁溫度不均勻而導(dǎo)致坩堝涂層出現(xiàn)起泡、掉粉等現(xiàn)象。四個側(cè)板中的下加熱板的高度相同，使得旋轉(zhuǎn)加熱臺被分割成兩個完整的長方體空腔結(jié)構(gòu)，進(jìn)而便于分別對坩堝的上側(cè)壁溫度和下側(cè)壁溫度進(jìn)行有針對性的控制。側(cè)板的高度大于坩堝的深度，保證了坩堝的上半部不與空氣接觸，由此避免了坩堝上半部分降溫較快。

附圖說明

?????圖1為旋轉(zhuǎn)加熱臺的結(jié)構(gòu)示意圖；

?????其中附圖標(biāo)記所對應(yīng)的零部件名稱如下：

1-側(cè)板，2-底板，3-上加熱板，4-下加熱板。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步的說明。在此需要說明的是，對于這些實(shí)施方式的說明用于幫助理解本發(fā)發(fā)明，但并不構(gòu)成對本發(fā)明的限定。此外，下面所描述的本發(fā)明各個實(shí)施方式中所涉及的技術(shù)特征只要彼此之間未構(gòu)成沖突就可以相互組合。

實(shí)施例1

如圖1所示，一種用于坩堝噴涂旋轉(zhuǎn)加熱臺的新型側(cè)板，包括加熱板和加熱控制系統(tǒng)，所述加熱板包括四個側(cè)板1和一個底板2，其中側(cè)板1和底板2構(gòu)成上表面開口的長方體空腔結(jié)構(gòu)，所述側(cè)板1由上加熱板3和下加熱板4組成；還包括控制上加熱板3的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)A，控制下加熱板4的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)B以及控制底板2的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)C。

在本實(shí)施例中，側(cè)板1分為上加熱板3和下加熱板4，溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)A、溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)B分別控制上加熱板3、下加熱板4。因此，通過分別調(diào)節(jié)溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)A和溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)B可實(shí)現(xiàn)噴涂過程中坩堝側(cè)壁溫度的均勻性。根據(jù)坩堝加熱的具體要求，可通過溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)調(diào)節(jié)電流大小或占空比來實(shí)現(xiàn)坩堝側(cè)壁溫度的均勻性。方法如下：加大上加熱板3中的輸入電流，減小下加熱板4中的輸入電流，直至縮小坩堝上側(cè)壁和下側(cè)壁的溫差；或者延長一個周期內(nèi)上加熱板3的通電時間，縮短一個周期內(nèi)下加熱板4的通電時間，直至縮小坩堝上側(cè)壁和下側(cè)壁的溫差。

實(shí)施例2

本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，所述四個側(cè)板1中的下加熱板4的高度相同。