[實用新型]一種OLED器件

有效

• 申請號: 201420592564.4
• 申請日: 2014-10-15
• 公開（公告）號: CN204102942U
• 公開（公告）日: 2015-01-14
• 發明（設計）人: 韓愛英;趙曉宇;宋文志
• 申請（專利權）人: 宇瑞(上海)化學有限公司
• 主分類號: H01L51/50
• 分類號: H01L51/50
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

?本實用新型屬于光電顯示技術領域，尤其涉及一種OLED器件。

背景技術

OLED即Organic?Light?Emitting?Diode的英文縮寫，譯為有機發光二極管。OLED不需背光源、省電、亮度更高、成本更低的特點，使其得到了國內外眾多企業的廣泛關注。

陸續有廠家把OLED技術應用在數碼相機、手機、MP3等數字產品的顯示屏幕上，從此OLED顯示器的制造和生產呈現出如火如荼、方興未艾之勢。隨著OLED技術難點不斷被攻克，成本和價格也逐年下降，市場需求也隨著迅速升溫，應用OLED的終端產品也越來越多。

OLED的發光機理是在外加電場的作用下，電子和空穴分別從正負兩極注入有機發光材料，從而在該有機發光材料中進行遷移、復合并衰減而發光。

發明內容

本實用新型的目的是提供一種新型OLED器件。

本實用新型的技術方案是：

一種OLED器件，包括依次排列的ITO陽極、有機功能層和陰極，所述有機功能層由依次排列的空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層、電子注入層組成，所述陽極與所述空穴注入層相連，所述電子注入層與所述陰極相連，所述空穴傳輸層和所述發光層之間還有空穴阻擋層。

優選的，所述空穴阻擋層的厚度為9nm-13nm。

優選的，所述陰極為鋰、鎂、鋁中的任一種。

優選的，所述空穴阻擋層的材料為2,9-二甲基-4,7-聯苯-1,10-鄰二氮雜菲。

優選的，所述空穴注入層的材料為N,N-雙（4-（4-二苯并呋喃基）苯基）-[1,1':4'1''-三聯苯基]-4-胺。

上述名詞的簡稱如下：

空穴注入層為HIL，空穴傳輸層為HTL，發光層為EML，電子傳輸層為ETL，電子注入層EIL，ITO為銦錫氧化物。

工作原理：

一般來說EML的厚度通常在100nm，雖然制備方法簡單，但復合發光區靠近金屬電極，且電子和空穴注入不平衡。如何有效地解決電子和空穴的復合區遠離電極和平衡載流子注入速率問題，是構造器件應考慮的主要問題。而空穴的注入效率要遠高于電子的注入效率，從而造成電子和空穴注入的不平衡，不利于激子的形成。本實用新型采用在HTL和ETL間加入空穴阻擋層來限制空穴的擴散。

本實用新型優點：限制空穴擴散的空穴阻擋層，可以有效地調節載流子的復合區域，保持空穴和電子的平衡，獲得所需顏色光的發射。

附圖說明

圖1為本實用新型示意圖。

圖1中的標號為：1-ITO陽極，2-空穴注入層，3-空穴傳輸層，4-空穴阻擋層，5-發光層，6-電子傳輸層，7-電子注入層，8-陰極。????

具體實施方式

下面結合具體實施例，進一步闡述本實用新型。應理解，這些實施例僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍。此外應理解，在閱讀了本實用新型講授的內容之后，本領域技術人員可以對本實用新型作各種修改或改動，這些等價形式同樣落于本申請所附權利要求書所限定的范圍。

實施例1

一種OLED器件，包括依次排列的ITO陽極、有機功能層和陰極，所述有機功能層由依次排列的空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層、電子注入層組成，所述陽極與所述空穴注入層相連，所述電子注入層與所述陰極相連，所述空穴傳輸層和所述發光層之間還有空穴阻擋層。

采用AL為陰極，2,9-二甲基-4,7-聯苯-1,10-鄰二氮雜菲為空穴阻擋層，該材料的CAS號為4733-39-5，可以從市面中購買到。

控制空穴阻擋層的厚度為9nm。

此時，空穴阻擋層有效地阻擋了空穴,?同時還具有適當的最低未占有分子軌道（LUMO）?能級和較高的電子輸運能力，以有利于電子的注入，平衡復合區載流子濃度，從而提高器件效率。

同理，本領域的技術人員通過實驗可以得出，空穴阻擋層的厚度為10nm、11nm、12nm、13nm時，空穴阻擋層仍然有效地阻擋了空穴。

同理，本領域的技術人員通過實驗可以得出，Mg和Li也同樣可以作為陰極，并得到較好效果。

所述空穴注入層的材料為N,N-雙（4-（4-二苯并呋喃基）苯基）-[1,1':4'1''-三聯苯基]-4-胺，該材料CAS號為1198399-61-9，可以通過二苯并呋喃-4-硼酸來合成。