[實用新型]全自動真空電子槍鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201420591947.X
• 申請日: 2014-10-14
• 公開（公告）號: CN204125525U
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發明（設計）人: 張國勇
• 申請（專利權）人: 秦皇島國泰玻璃有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30
• 代理公司: 秦皇島市維信專利事務所 13102
• 代理人: 戴輝

技術領域

本實用新型涉及一種真空鍍膜裝置。具體說是一種全自動真空電子槍鍍膜裝置。

背景技術

目前，對于玻璃基片真空鍍膜的生產是以間歇式小規格、低效率、高成本的生產方式。該真空鍍膜裝置，包括真空罐體，在所述真空罐體內沿半徑方向固定設置電子槍，及與電子槍相對應配置的裝載物料的電子槍坩堝，距離電子槍上方一定高度具有一個旋轉架。真空鍍膜時，將被鍍物體在大氣狀態下安放在真空罐內的旋轉架上，關閉真空罐門，開始對真空罐體進行抽真空。在合理真空條件下（例如1*10E-2）滿足后（抽真空時間約為30分鐘），被鍍物體開始高速旋轉，開啟電子槍分別蒸鍍多層相應物質的鍍制，鍍制完成后再對真空罐體進行充氣，方可取出被鍍物體，即完成一次間歇式鍍膜。另外，因被鍍物體的鍍膜技術要求不同，每次間歇工作時間約為1-12小時，最大工作效率為3平方米/小時。因此，現行技術的生產僅以單個被鍍物體有限的裝載面積進行鍍制，不能形成具有生產能力的連續鍍膜，所以鍍膜產品規格受到限制、生產效率低、生產成本高、無法形成高效率的全自動化生產，僅能鍍制基片載體，無法完成在卷取基片上鍍制各種金屬及氧化物、非金屬膜層的問題。

發明內容

鑒于上述現狀，本實用新型提供了一種全自動真空電子槍鍍膜裝置，使其能夠滿足不同規格，及形成高效率的全自動化生產，并可在任何基片上鍍制各種金屬及氧化物、非金屬膜層。

本實用新型的技術解決方案是，一種全自動真空電子槍鍍膜裝置，包括真空室，及垂直安裝在真空室內的電子槍，該電子槍所對應于裝載物料的電子槍坩堝；其中包括有一輸送帶，該輸送帶穿過真空室位于電子槍的上方；所述的電子槍沿輸送帶橫截面方向按間隔排列至少一排以上且分布多只的電子槍。因此，通過線性位移的輸送帶的輸送方式，可以使被鍍物品具備自動化連續生產的能力。

本實用新型中，所涉及的真空室兩端進出口處安裝有用于密封的真空鎖。保證真空室的真空要求。

進一步地，所述的真空鎖為已有技術，故省略描述。

本實用新型中，所述的電子槍多排排列時，每排可排列相同或非相同數量的電子槍。

本實用新型中，所涉及的電子槍與一個一種被鍍物料的電子槍坩堝相配置，也可與多種相同或不相同被鍍物料的電子槍坩堝相配置。可實現鍍制任何被鍍物料，滿足相同或不同要求的品種。

本實用新型所指的電子槍，均為外購國產配套電子槍，如北京蓋德、南京涉谷、成都金雅克公司的產品。

本實用新型具有的積極效果是，采用一排或多排排列電子槍鍍膜，可以滿足產品不同規格的要求。另外，通過設置的移動輸送帶，可有效形成連續自動化生產，即提高了生產效率，又可降低生產成本，保證產品質量的穩定。本實用新型生產效率可達80平方米/小時。同時，還可滿足在任何形成的基片上鍍制各種金屬及氧化物、非金屬膜層。

附圖說明

圖1是本實用新型的主視圖；

圖2是圖1的俯視圖。

具體實施方式

下面將結合附圖實施例，對本實用新型作進一步說明。

實施例1

見圖1、圖2所示的一種全自動真空電子槍鍍膜裝置，包括真空室5，及位于真空室5兩側的進片室3和出片室9，本實用新型所述真空室5內部垂直安裝有電子槍6，及與電子槍6所對應的裝載物料的電子槍坩堝7。本實施例還包括有一輸送帶4，該輸送帶4穿過真空室5位于電子槍6的上方。本實施例所述的電子槍6沿輸送帶4橫截面方向按間隔排列有三排電子槍，第一排排列有五只電子槍，第二排排列有三只電子槍，第三排排列有五只電子槍，每一只電子槍對應一個裝載物料的電子槍坩堝7。本新型中，在所述真空室5的兩端連接有進片室3和出片室9，及安裝在進片室3和出片室9內的進片、出片輸送帶2和10，與真空室5內的輸送帶4對接。實施例中真空室5的兩端及進片室3和出片室8的進出口兩端分別安裝有用于封閉的真空鎖8和1。保證真空室5的真空要求。本實施例的設計可鍍制規格為：1.5m*2m，三層減反膜（也叫增透膜），第一排的五只電子槍，每只電子槍與裝載折射率為1.6物料的電子槍坩堝相對應；第二排的三只電子槍，每只電子槍與裝載折射率為2.2物料的電子槍坩堝相對應；第三排五只電子槍，每只電子槍與裝載1.4物料的電子槍坩堝相對應。對上述物料每只電子槍采用不同的高壓和束流進行蒸鍍，約五分鐘可以生產一片透光率為98%以上的性能優良的大規格減反膜產品，該產品每小時產能為36平方米。