[實用新型]一種新型溝槽MOSFET單元有效
| 申請號: | 201420588567.0 | 申請日: | 2014-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN204271088U | 公開(公告)日: | 2015-04-15 |
| 發明(設計)人: | 黃澤軍 | 申請(專利權)人: | 深圳市銳駿半導體有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78;H01L29/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市福田*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 溝槽 mosfet 單元 | ||
1.一種新型溝槽MOSFET單元,其特征在于,包括MOSFET襯底及其上形成的外延層,形成在該外延層內的溝槽及被溝槽分割的輕摻雜區,在溝槽的內表面形成有第一介質層,在溝槽內的第一介質層上形成有導電的填充層,在輕摻雜區內形成有重摻雜區,該溝槽MOSFET還包括外圍金屬層,柵極金屬層,源極金屬層和漏極金屬層、離子摻雜區。
2.根據權利要求1所述溝槽MOSFET單元,其特征在于,所述離子摻雜區中的離子根據外延層設置。
3.????根據權利要求2所述溝槽MOSFET單元,其特征在于,所述離子摻雜區設置在刻蝕完成的溝槽上。
4.根據權利要求3所述溝槽MOSFET單元,其特征在于,所述離子摻雜區上設置氧化層。
5.根據權利要求4所述溝槽MOSFET單元,其特征在于,所述離子摻雜區中的離子比例根據目標導通電阻設置。
6.????根據權利要求1所述溝槽MOSFET單元,其特征在于,在所述離子摻雜區上設置氧化層。
7.根據權利要求1所述溝槽MOSFET單元,其特征在于,在MOSFET單元內設置MOSFET驅動電路,MOSFET驅動電路它包括輸出電路、輸入電路、第一光耦和驅動電路;輸入電路與第一光耦連接,第一光耦與驅動電路連接;輸入電路由第三電阻、第四電阻和第五電阻組成,第三電阻和第四電阻串聯后與第五電阻并聯,第三電阻的另一端與信號輸入端連接,第四電阻的另一端與控制地連接;第一光耦的第二引腳與第三電阻和第四電阻的串聯點相連接,第一光耦的第三引腳、第三引腳、第四引腳均分別接控制地。
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