[實用新型]一種可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420587560.7
• 申請日: 2014-10-10
• 公開（公告）號: CN204151410U
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 余華駿;江維;胡勇
• 申請（專利權(quán)）人: 咸寧南玻節(jié)能玻璃有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：具有高度調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，所述高度調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)由兩組對稱的升降機(jī)構(gòu)組成，所述升降機(jī)構(gòu)包括掛板(4)、偏心輪(7)和頂桿(3)，

所述偏心輪(7)的轉(zhuǎn)動軸固定在真空磁控濺射鍍膜設(shè)備上，所述頂桿(3)設(shè)置在所述偏心輪(7)的上側(cè)，所述掛板(4)的頂部與頂桿(3)連接，掛板(4)的底端設(shè)于隔氣板(1)的下側(cè)并托住隔氣板(1)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述偏心輪(7)的外側(cè)設(shè)置有銅套(2)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述掛板(4)的形狀為L形。