[實用新型]一種金色雙銀低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號: | 201420587523.6 | 申請日: | 2014-10-10 |
| 公開(公告)號: | CN204160834U | 公開(公告)日: | 2015-02-18 |
| 發明(設計)人: | 余華駿;江維;胡勇 | 申請(專利權)人: | 咸寧南玻節能玻璃有限公司 |
| 主分類號: | B32B17/06 | 分類號: | B32B17/06;B32B33/00;C03C17/36 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 437000 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 金色 雙銀低 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
技術領域
本實用新型涉及玻璃深加工技術領域,具體涉及一種金色雙銀低輻射鍍膜玻璃。
背景技術
低輻射玻璃(LOW~E)是在玻璃表面鍍上由多層銀等金屬或其他化合物組成的薄膜而成,以實現一些光學和熱學性能的節能玻璃。
普通單片玻璃陽光透過率一般,紅外反射率很低,隔熱隔音性能很差。如果用于幕墻,大部分太陽光透過玻璃而進入室內,使室內物體溫度上升,這些能量又會以輻射形式通過玻璃散失掉,因此普通玻璃節能性差。而低輻射玻璃合中空使用具有良好的透光、保溫、隔熱性能,適合廣泛用于玻璃幕墻等地方。
隨著經濟的發展,市場對LOW~e玻璃的要求越來越高,不僅要求其具有較高的性能,較強的實用性,還必須集美觀、舒適、價廉于一體,金色玻璃體現富貴表現奢華,因而備受人們的喜愛。
現在金色的LOW~E鍍膜玻璃少,市場上有一些金色鍍膜玻璃,但是其大多屬于熱反射膜系或單銀膜系,熱反射膜層一般設計為介質層/金屬層/介質層,單銀膜層一般設計為介質層/紅外反射層/阻擋層介質層,這兩種存在膜層設計節能性差的缺點。熱反射和單銀玻璃的遮陽系數分別在0.3、0.4以上,K值分別在4.6W/M2*K和1.8W/M2*K以上,輻射率分別為0.3和0.15以上,因此其節能效果不佳。有些金色鍍膜玻璃是用真黃金做的,由于使用真黃金,價格昂貴,成本較高,一般普通人員很難消費得起。
申請號為200820051152.4的專利公開了一種雙銀低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基片,它的技術要點在于,在玻璃基片上向外依次復合有氧化鈦膜層、氧化鋅膜層、銀層、鎳鉻膜層、氧化鋅膜層、銀層、氮化硅膜層。本實用新型的目的是為了克服現有低輻射玻璃由于銀層的銀粒子不均勻或凝聚,從而使鍍膜玻璃產生斑點、霧化的不足而提供的一種銀層均勻分布從而低輻射效果好的低輻射玻璃。同時本實用新型兩層金屬銀,使其輻射率更低,增加隔熱或保溫效果,更具節能效果。
申請號為200810065654.7的專利公開了一種金色低輻射鍍膜玻璃,玻璃單表面鍍覆有復合膜層,復合膜層的最外層為一保護膜層,復合膜層包括三層金屬膜層,其中一層金屬膜層是銅膜層,一層是銀膜層,緊貼保護膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層。其制作方法包括清洗、干燥和鍍覆,鍍覆是真空磁控濺射鍍覆,將干燥后的玻璃置入真空磁控濺射鍍膜設備的靶材室逐層鍍覆復合膜層。本實用新型選用特定的靶材、氣氛及組合替代金靶材制作金色低輻射鍍膜玻璃,具有性能優良、色彩鮮艷且容易調節、質量穩定、制作效率高、成本低、易于推廣的特點,并能通過改變各膜層的厚度獲得不同透過率、透過色、反射率、反射色及遮陽系數、輻射率的多品種金色低輻射鍍膜玻璃,以適應市場不同需求。
申請號為201110091107.8的專利公開了一種可鋼化金色低輻射鍍膜玻璃及其制造方法,旨在解決現有金色鍍膜玻璃產品難于鋼化處理、外觀色調不純正、抗氧化性差、節能效果差等技術問題。本實用新型的可鋼化金色低輻射鍍膜玻璃,玻璃基層上依次沉積有如下厚度的膜層,第一氮化硅膜層19.1~41.9nm、第一鎳鉻合金膜層2~41.0nm、銅銦合金膜層2.5~13.7nm、銀膜層4.9~14.6nm、第二鎳鉻合金膜層1.7~6.3nm、第二氮化硅膜層91.8~128.0nm。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了彌補現有技術的不足,提供一種顏色均勻性好、性能優異且節能的金色雙銀低輻射鍍膜玻璃。
為了達到本實用新型的目的,技術方案如下:
一種金色雙銀低輻射鍍膜玻璃,具有玻璃基片,其特征在于:從玻璃基片的空氣面,由內到外依次相鄰地復合有八個膜層,其中第一層即最內層為ZnO層,厚度為0~5nm;第二層為Ag層,厚度為0~25nm;第三層為Cu層,厚度為0~10nm;第四層為NiCr層,厚度0~5nm;第五層為ZnO層,厚度為0~60nm;第六層為Ag層,厚度為0~10nm;第七層為NiCr層,厚度為0~8nm;第八層為SiN層,厚度為0~10nm。
作為優選的技術方案:所述第二層厚度為8~25nm。
作為優選的技術方案:所述第三層厚度為5~8nm。
作為優選的技術方案:所述第二層與第三層的厚度比為1.4:1~2:1。
作為優選的技術方案:所述第五層的厚度為40~60nm。
作為優選的技術方案:所述第七層NiCr層的厚度大于第四層NiCr層的厚度。
制備包括以下步驟:
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