[實用新型]用于小顆粒尺寸物料的滑閥

有效

• 申請號: 201420578232.0
• 申請日: 2014-10-08
• 公開（公告）號: CN204267773U
• 公開（公告）日: 2015-04-15
• 發明（設計）人: 萬納·馬切西尼
• 申請（專利權）人: 威埃姆集團股份有限公司
• 主分類號: F16K3/30
• 分類號: F16K3/30
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛;李靜

1.一種用于小顆粒尺寸物料的滑閥，所述滑閥包括：剛性框架(10)，所述剛性框架限定排放嘴(OP)以排放所述物料；以及開閉器(40)，所述開閉器由相應的移動機構(45)致動，所述開閉器(40)能夠移動并且具有延伸部，所述延伸部形成為當在俯視視角觀察時關閉所述排放嘴(OP)；

其特征在于，所述滑閥進一步包括用于密封元件(30)的高度調節裝置(20)，所述高度調節裝置(20)適于補償所述密封元件(30)的下面(80)與所述開閉器(40)的上面(40A)之間的密封效果損失，所述密封效果損失是由于所述密封元件(30)的所述下面(80)與所述開閉器(40)的所述上面(40A)之間的相對摩擦產生的磨損而引起的。

2.根據權利要求1所述的滑閥，其特征在于，所述高度調節裝置(20)包括第一元件(21；22)，所述第一元件被耦接于第二元件(22；21)；所述第一元件(21；22)的水平移動轉變成所述第二元件(22；21)的豎直移動，所述第二元件進而作用于所述密封元件(30)上，以便恢復期望的密封效果。

3.根據權利要求1或2所述的滑閥，其特征在于，在所述密封元件(30)的所述下面(80)上，存在位于所述下面(80)與所述開閉器(40)的所述上面(40A)之間的至少一個接觸點，所述至少一個接觸點(83)是由于所述下面(80)對應于所述高度調節裝置(20)所引起的局部變形而產生的。

4.根據權利要求3所述的滑閥，其特征在于，在所述下面(80)與所述開閉器(40)的所述上面(40A)之間存在有兩個其他接觸點(81、82)。

5.根據權利要求1或2所述的滑閥，其特征在于，所述高度調節裝置(20)包括第一板條(21)，所述第一板條借助于鋸齒耦接部(23)而位于第二板條(22)上。

6.根據權利要求1或2所述的滑閥，其特征在于，所述密封元件(30)包括：上部(30A)，所述上部位于所述高度調節裝置(20)上方；以及下部(30B)，所述下部鄰近于所述高度調節裝置(20)并且設置在所述高度調節裝置下方。

7.根據權利要求6所述的滑閥，其特征在于，所述密封元件(30)的所述上部(30A)位于支撐元件(50)上，所述支撐元件進而包括水平板(50A)，所述水平板具有一端部，所述端部設置有向下延伸的豎直鄰接部(50B)；在所述水平板(50A)的上表面上設置有縱向凹槽(60)，所述縱向凹槽定位成容納突出元件(30A*)，所述突出元件從所述密封元件(30)的所述上部(30A)突出；所述突出元件(30A*)與所述縱向凹槽(60)之間的耦接部表示第一錨固區域(AZ1)，以將所述密封元件(30)錨固于所述支撐元件(50)。

8.根據權利要求7所述的滑閥，其特征在于，用于將所述密封元件(30)錨固于所述支撐元件(50)的第二錨固區域(AZ2)存在于將所述密封元件(30)的彎曲部(30B*)耦接于所述豎直鄰接部(50B)的耦接部中。

9.根據權利要求7或8所述的滑閥，其特征在于，在所述豎直鄰接部(50B)與所述密封元件(30)的所述下部(30B)之間限定有腔體(25)，所述腔體容納所述高度調節裝置(20)。

10.根據權利要求9所述的滑閥，其特征在于，另一下密封元件(90)作用在所述開閉器(40)的下表面(40B)上，所述另一下密封元件被成形為類似于所述密封元件(30)。