[實用新型]一種SNCR脫硝還原劑供給系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420575545.0 | 申請日: | 2014-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN204121967U | 公開(公告)日: | 2015-01-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張定海;周棋;楊志忠;葉茂;張芳 | 申請(專利權(quán))人: | 東方電氣集團東方鍋爐股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/79 | 分類號: | B01D53/79;B01D53/56 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214 | 代理人: | 管高峰;錢成岑 |
| 地址: | 643001 四川省自*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 sncr 還原劑 供給 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領域
本實用新型涉及一種煙氣凈化脫硝裝置,尤其涉及CFB爐SNCR脫硝還原劑噴射控制領域。
背景技術(shù)
我國燃煤發(fā)電、鋼鐵、水泥等行業(yè)的工業(yè)生產(chǎn)氮氧化物排放量巨大,己成為僅次于二氧化硫的大氣污染物,酸雨問題、空氣質(zhì)量問題、大氣層臭氧破壞越來越突出。目前中國已繼歐洲和北美之后成為世界第三大酸雨區(qū),從而給我國經(jīng)濟的可持續(xù)發(fā)展造成嚴重的環(huán)境壓力。
SNCR是一種發(fā)展成熟的NOx控制技術(shù)。SNCR主要原理是在沒有催化劑作用下,向870~1150℃高溫煙氣中噴射氮劑,還原劑與煙氣中NOx反應生成N2。
CFB爐本身NOx排放低,火電廠NOx排放限值將從450-1100mg/Nm3(按2003版標準)調(diào)整為100-200mg/Nm3。且重點地區(qū)(北京、天津、河北、上海、浙江、江蘇、廣東,火電裝機占全國29.6%)NOx排放限值100mg/Nm3,因為CFB爐為高灰爐型,這對于實施SCR難度較大。實施SNCR技術(shù)將會是CFB爐最經(jīng)濟的手段。
目前關(guān)于CFB-SNCR技術(shù)工程應用較多,但是也存在一些問題:
首先,現(xiàn)有的SNCR脫硝系統(tǒng),都是直接將尿素配置成40~50%左右的高濃度尿素溶液,然后在運行過程中通過額外的稀釋水系統(tǒng)來將前述高濃度尿素溶液稀釋至10%左右的低濃度進行實際噴射使用,不同負荷調(diào)節(jié)該原始40~50%高濃度尿素溶液的量來實現(xiàn)控制,該方法的缺點是1)對鍋爐效率影響大,因為噴入的稀釋水是以液態(tài)形式進入以氣態(tài)形式排出,水至水蒸產(chǎn)生的鍋爐效率的影響較大,而該方法不同負荷下可調(diào)的僅為尿素溶液,僅為原始濃尿素溶液量少,為了確保噴射裝置最后的霧化效果穩(wěn)定,必須保證占大比例的稀釋水量的穩(wěn)定,因此稀釋水的量不能因為負荷降低和在線調(diào)節(jié),故對鍋爐效率影響較大;2)極易使得尿素溶液和稀釋水流量兩股射流混合時出現(xiàn)互頂,從而造成調(diào)試及正常運行的難度加大,也造成流量的難以調(diào)節(jié),尤其對于CFB鍋爐,因為本身NOx排放本身就低,造成尿素溶液和稀釋水量本身就小,其中尿素溶液量又更少,所以一般管道很小,更容易造成兩股射流互頂情況。
其二,大型循環(huán)流化床鍋爐對應的噴射點的數(shù)量為2個及以上,每個噴射點均布置有若干噴射裝置,現(xiàn)有技術(shù)中為了方便控制,將脫硝還原劑分配系統(tǒng)分成若干路分配支路,各分配支路與噴射點一一對應,即每一路分配支路均獨立地對應某一噴射點并同時控制該噴射點的所有噴射裝置。但是這種控制系統(tǒng)存在著系統(tǒng)檢修、維護的難題,因為如果一個分配支路內(nèi)任何一個噴射裝置需要檢修或者需要沖洗,該分配支路將整體停運,導致該噴射點無脫硝效果,從而使得脫硝效果降低而無法達到需要保證的脫硝效率的結(jié)果。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于:提出一種系統(tǒng)簡單,但對鍋爐效率影響小,可完全避免現(xiàn)有技術(shù)稀釋水和脫硝還原劑溶液互頂?shù)膯栴}的SNCR脫硝還原劑供給系統(tǒng)。
本實用新型的目的通過下述技術(shù)方案來實現(xiàn):
一種SNCR脫硝還原劑供給系統(tǒng),其特征在于:包括若干個脫硝還原劑的噴射點,布置于所述噴射點的若干能夠分別獨立開關(guān)的噴射裝置,以及與所述噴射裝置連通的脫硝還原劑供給系統(tǒng),所述脫硝還原劑供給系統(tǒng)包括脫硝還原劑存儲裝置,以及連接所述噴射裝置和脫硝還原劑存儲裝置的脫硝還原劑供料泵,且不包括稀釋水供給系統(tǒng)。
上述方案中,不采用現(xiàn)有技術(shù)的稀釋水供給系統(tǒng)來將40~50%左右的高濃度尿素溶液稀釋至10%±5的低濃度后再進行實際噴射使用,而是直接采用脫硝還原劑存儲裝置直接噴射(此時,脫硝還原劑存儲裝置中只需存儲實際最終使用的10%±5的低濃度尿素溶液),對于尿素溶液的噴射量也僅需對該溶液進行控制即可,避免了現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,同時本身噴射裝置就具有特定流量范圍霧化保證,同時流量變化過大時完全可通過能夠分別獨立開關(guān)的噴射裝置直接增減噴射裝置來實現(xiàn),確保了系統(tǒng)的實際可用。
作為選擇,還包括設于脫硝還原劑存儲裝置和脫硝還原劑供料泵之間的過濾器。
上述方案中,過濾器進行過濾,保護后續(xù)泵及噴射裝置。
作為選擇,還包括連通所述噴射裝置和脫硝還原劑供給系統(tǒng)的脫硝還原劑分配系統(tǒng),所述脫硝還原劑分配系統(tǒng)由若干分配支路組成,每一分配支路分別獨立地與完全覆蓋各噴射點的若干噴射裝置相連,所述各分配支路上均設有閥門。
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