[實(shí)用新型]撕膜系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420575016.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-09-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204203575U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-03-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉晏全;尤智隆 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 明基材料有限公司;明基材料股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/13 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/13;B32B38/10 |
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| 地址: | 215121 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
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技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型有關(guān)于一種撕膜系統(tǒng),特指一種用于撕除面板上的含膠光學(xué)膜,而不易損壞面板原有功能的撕膜系統(tǒng)。
背景技術(shù)
現(xiàn)行液晶顯示器的制程中,包含了以感壓膠將偏光板等光學(xué)膜貼覆于液晶面板上,使其具備顯示效果,而光學(xué)膜貼附時(shí)的精度與貼附后的外觀對(duì)顯示器的效果影響很大,因此,當(dāng)貼附精度不足、移位或貼附時(shí)產(chǎn)生氣泡等不良情況時(shí),皆需要撕除光學(xué)膜以進(jìn)行重工。
撕除光學(xué)膜的方式一般包含噴灑溶劑并同時(shí)以人工手動(dòng)撕除方式,或使用加熱型的撕膜系統(tǒng)以撕除黏著力較大的含膠光學(xué)膜,但對(duì)于許多黏著力過(guò)高或可耐較高溫的含膠光學(xué)膜,即使加熱亦不易軟化其黏著層,強(qiáng)行撕除時(shí)反而因應(yīng)力過(guò)大容易使面板破損,且往往因黏著層經(jīng)貼服一段時(shí)間后對(duì)面板表面黏著力增加,故撕除后仍會(huì)殘留大量殘膠于面板表面,須進(jìn)行后續(xù)刮除清潔步驟,不僅需要增加人員工時(shí),且清潔過(guò)程也容易使面板表面形成刮傷等缺陷。
故本實(shí)用新型針對(duì)習(xí)知撕膜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行改善,以冷卻黏著層的方式取代習(xí)知加熱軟化黏著層的方式,降低黏著層的黏著力,使得含膠光學(xué)膜易于完整撕除,且不易使面板損壞。
實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于上述習(xí)知技藝之問(wèn)題,本實(shí)用新型的目的就是在提供一種具備新穎性、進(jìn)步性及產(chǎn)業(yè)利用性等專(zhuān)利要件的撕膜系統(tǒng),以期克服現(xiàn)有產(chǎn)品的難點(diǎn)。
本實(shí)用新型提供一種撕膜系統(tǒng),其用以撕除面板上的含膠光學(xué)膜,在一較佳實(shí)施態(tài)樣中,其包含承載平臺(tái),其用于承載該面板,該承載平臺(tái)上具有使該含膠光學(xué)膜于撕除時(shí)通過(guò)的間隙;撕膜裝置,其位于該承載平臺(tái)的間隙的下方,該撕膜裝置包含驅(qū)動(dòng)模塊,以驅(qū)動(dòng)該撕膜裝置從該面板撕除該含膠光學(xué)膜;以及冷卻模塊,位于該撕膜裝置的一側(cè),于該撕膜裝置進(jìn)行撕膜前對(duì)面板上的該含膠光學(xué)膜進(jìn)行冷卻,以先行降低面板與含膠光學(xué)膜之間的黏著力。
在一實(shí)施例的撕膜系統(tǒng)中,該冷卻模塊可提供的冷卻溫度范圍為-45℃至-50℃。
在又一實(shí)施例的撕膜系統(tǒng)中,該冷卻模塊為具有通氣孔洞管路的氣冷模塊或具有冷卻回路的液冷模塊。
在另一實(shí)施例的撕膜系統(tǒng)中,該承載平臺(tái)包含復(fù)數(shù)個(gè)滾輪或輸送帶,使該面板可于該承載平臺(tái)上平移傳輸。
在另一實(shí)施例的撕膜系統(tǒng)中,該承載平臺(tái)為可主動(dòng)傳輸該面板或被動(dòng)傳輸該面板的承載平臺(tái)。
在另一實(shí)施例的撕膜系統(tǒng)中,其進(jìn)一步包含同步控制器電連接于該承載平臺(tái)與該撕膜裝置,使該面板的平移速度與該含膠光學(xué)膜的撕除速度為同步。
在另一實(shí)施例的撕膜系統(tǒng)中,該撕膜裝置為可平移撕膜裝置,以控制該含膠光學(xué)膜的撕除角度。
在另一實(shí)施例的撕膜系統(tǒng)中,其進(jìn)一步包含收卷機(jī)構(gòu),以收取撕除后的該含膠光學(xué)膜。
在另一實(shí)施例的撕膜系統(tǒng)中,其進(jìn)一步包含靜電消除模塊,該靜電消除模塊設(shè)于該承載平臺(tái)的一側(cè)。
在另一實(shí)施例的撕膜系統(tǒng)中,該靜電消除模塊包含離子風(fēng)扇或接地裝置。
與習(xí)知技術(shù)相比,本實(shí)用新型的撕膜裝置藉由冷卻裝置將黏著層冷卻至其玻璃轉(zhuǎn)移溫度Tg以下以降低黏著力,繼而達(dá)到將黏著于液晶顯示面板表面的光學(xué)膜完整撕除,避免了殘膠的產(chǎn)生,使得撕膜過(guò)程中不易因過(guò)大的撕除應(yīng)力對(duì)該面板造成損傷。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述,但不作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。
附圖說(shuō)明
圖1為習(xí)知壓克力系感壓膠以動(dòng)態(tài)機(jī)械分析儀所測(cè)的圖譜;
圖2為本實(shí)用新型的撕膜系統(tǒng)一實(shí)施例的示意圖;
圖3為本實(shí)用新型之撕膜系統(tǒng)另一實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施方式
為使更了解本實(shí)用新型的特征、內(nèi)容與優(yōu)點(diǎn)及其所能達(dá)成的功效,茲將本實(shí)用新型配合附圖,并以實(shí)施例的表達(dá)形式詳細(xì)說(shuō)明如下,而其中所使用的圖式,其主旨僅為示意及輔助說(shuō)明書(shū)的用,未必為本實(shí)用新型實(shí)施后的真實(shí)比例與精準(zhǔn)配置,故不應(yīng)就所附的圖式的比例與配置關(guān)系解讀、局限本實(shí)用新型于實(shí)際實(shí)施上的權(quán)利范圍,合先敘明。
以下將參照相關(guān)圖式,說(shuō)明依本實(shí)用新型撕膜系統(tǒng)的實(shí)施例,為使便于理解,下述實(shí)施例中的相同組件以相同的符號(hào)標(biāo)示來(lái)說(shuō)明。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





