[實(shí)用新型]一種電化學(xué)水垢去除裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420574937.5 | 申請(qǐng)日: | 2014-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204198498U | 公開(公告)日: | 2015-03-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 章明歅;章俊杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京順泰創(chuàng)新科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào): | C02F5/00 | 分類號(hào): | C02F5/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 趙青朵 |
| 地址: | 102208 北京市昌平區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電化學(xué) 水垢 去除 裝置 | ||
1.一種電化學(xué)水垢去除裝置,包括用于電化學(xué)水處理的水垢晶核生成單元;
所述水垢晶核生成單元包括槽體;
所述槽體的底部設(shè)有進(jìn)水口和排污口;
所述槽體的頂端設(shè)有出水口;
設(shè)置于所述槽體的內(nèi)部的旋轉(zhuǎn)陰極;
設(shè)置于所述槽體的內(nèi)部的陽(yáng)極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水垢去除裝置,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)陰極為碳鋼旋轉(zhuǎn)陰極、不銹鋼旋轉(zhuǎn)陰極、鈦旋轉(zhuǎn)陰極、鈦合金旋轉(zhuǎn)陰極或鋁合金旋轉(zhuǎn)陰極。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水垢去除裝置,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)陰極為圓柱狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水垢去除裝置,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)陰極為筒狀,所述陽(yáng)極布置在旋轉(zhuǎn)陰極的筒狀腔室之內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水垢去除裝置,其特征在于,所述槽體的內(nèi)部還包括陰極刮刀;
所述槽體的上下兩端均為端板,上端板上設(shè)有卡槽;
所述陰極刮刀單獨(dú)固定在所述槽體的上端板的卡槽上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水垢去除裝置,其特征在于,所述槽體的內(nèi)部還包括隔膜;
所述隔膜設(shè)置在陽(yáng)極和旋轉(zhuǎn)陰極之間,將槽體相應(yīng)分為陽(yáng)極室和陰極室。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電化學(xué)水垢去除裝置,其特征在于,所述隔膜為陽(yáng)離子膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的電化學(xué)水垢去除裝置,其特征在于,所述水垢晶核生成單元還包括輔助電極;
所述輔助電極位于陰極室內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電化學(xué)水垢去除裝置,其特征在于,所述輔助電極為網(wǎng)狀形穩(wěn)性電極。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水垢去除裝置,其特征在于,所述陽(yáng)極為網(wǎng)狀形穩(wěn)性電極或圓柱狀形穩(wěn)性電極。
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