[實(shí)用新型]一種鍍膜基板及所得的產(chǎn)品

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420564273.4
• 申請(qǐng)日: 2014-09-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN204149628U
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-02-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔣紹洪;李玉成
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 惠州市萊特爾納米涂層科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B32B27/06
• 分類(lèi)號(hào): B32B27/06;B32B27/36;B32B9/04;B32B33/00
• 代理公司: 深圳市君盈知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44315
• 代理人: 楊利娟

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種顯示器件技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鍍膜基板及所得的產(chǎn)品。?

背景技術(shù)

1971年德國(guó)的Aisenberg和Chabot采用碳離子束首次制備出了具有金剛石特征的非晶態(tài)碳膜,由于所制備的薄膜具有與金剛石相似的性能,Aisenberg于1973年首次把它稱(chēng)之為類(lèi)金剛鉆石(DLC)膜。類(lèi)金剛鉆石膜有著和金剛石幾乎一樣的性質(zhì),如高硬度、耐磨損、高表面光潔度、高電阻率、優(yōu)良的場(chǎng)發(fā)射性能,高透光率及化學(xué)惰性等,它的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在機(jī)械、電子、微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)、光學(xué)和生物醫(yī)學(xué)等各個(gè)領(lǐng)域。類(lèi)金剛鉆石膜的沉積溫度低、表面平滑,具有比金剛石膜更高的性價(jià)比,且在相當(dāng)廣泛的領(lǐng)域內(nèi)可以代替金剛鉆石膜,所以自80年代以來(lái)一直是研究的熱點(diǎn)。類(lèi)金剛鉆石(DLC)的低摩擦系數(shù)和高耐磨性使類(lèi)金剛鉆石薄膜已在切削工具、磁存儲(chǔ)、人工關(guān)節(jié)等領(lǐng)域得到應(yīng)用。無(wú)色透明的類(lèi)金剛鉆石膜可以在保證光學(xué)組件的光學(xué)性能的同時(shí),明顯地改善其耐磨性和抗蝕性,現(xiàn)在已被應(yīng)用于光學(xué)透鏡的保護(hù)膜,光盤(pán)保護(hù)膜、手表表面的保護(hù)膜、眼鏡片(玻璃、樹(shù)脂)保護(hù)膜以及汽車(chē)擋風(fēng)玻璃保護(hù)膜等。另一光學(xué)性質(zhì)是其紅外增透保護(hù)特性,即它不僅具有紅外增透作用,又有保護(hù)基底材料的功能，可作為紅外區(qū)的增透和保護(hù)膜。現(xiàn)有技術(shù)直接把類(lèi)金剛石膜鍍到基片上，存在鍍膜不牢靠，或者整體膜層的光學(xué)性能差，可見(jiàn)光譜380～700nm透過(guò)率低的問(wèn)題。?

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的膜層存在鍍膜附著力差、表面硬度不高，可見(jiàn)光譜380～700nm透過(guò)率低的問(wèn)題,本實(shí)用新型提供一種附著力強(qiáng)，抗劃傷性能高，高疏水防污，防指紋，抗菌的鍍膜基板。?

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案是：一種鍍膜基板，包括基片、依次貼合在基片表面上的過(guò)渡膜層和保護(hù)膜層，所述的基片是玻璃基片或光學(xué)塑料基片；所述的過(guò)渡膜層是交替鍍制的一層或多層SiOx、TiO₂、Nb₂O₅和/或Ta₂O₅層，其中X是0～2的整數(shù)，所述的保護(hù)膜層是類(lèi)金剛石膜層。?

進(jìn)一步：在上述鍍膜基板中，所述的光學(xué)塑料基片優(yōu)選的是聚甲基丙烯酸甲酯PMMA基片、聚碳酸酯片PC?LENS基片和聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯PET基片中的一種。所述的過(guò)渡膜層是1～8層；所述的過(guò)渡膜層的厚度是1～1000納米。所述的過(guò)渡膜層優(yōu)選的厚度是5～500納米。所述的類(lèi)金剛石膜層是5～500納米。所述的光學(xué)類(lèi)金剛石膜層的硬度8～30GPa。所述的過(guò)渡膜層和光學(xué)類(lèi)金剛石膜層的厚度是特定的1/4波長(zhǎng)光學(xué)厚度整數(shù)倍或非規(guī)整光學(xué)厚度，以形成光學(xué)功能膜系。?

本實(shí)用新型還提供了一種手機(jī)屏，它包括上述鍍膜基板。?

本實(shí)用新型還提供了一種電腦屏，它包括上述鍍膜基板。?

本實(shí)用新型還提供了一種電視機(jī)屏，它包括上述鍍膜基板。?

類(lèi)金剛石簡(jiǎn)稱(chēng)DLC，它是無(wú)定形碳中含sp³鍵的亞穩(wěn)態(tài)結(jié)構(gòu),在金剛石中,碳原子以sp³鍵結(jié)合,在石墨中碳原子以sp²鍵合,在DLC中,有sp³、sp²兩種鍵合形式,因而類(lèi)金剛石膜的結(jié)構(gòu)和性能介于金剛石和石墨之間。目前，類(lèi)金剛石膜層的制備方法很多，如離子束沉積(IBD)、濺射沉積、射頻CVD(RFCVD)、磁過(guò)濾陰極弧沉積(FCVA)、脈沖激光沉積等物理氣相沉積和直流CVD(DCCW)、電子束蒸發(fā)CVD、微波CVD(ECRCVD)等化學(xué)氣相沉積。類(lèi)金剛石的性能與類(lèi)金剛石SP³鍵SP²與鍵的含量密切相關(guān)。通過(guò)控制制備類(lèi)金剛石薄膜的工藝條件，可以控制薄膜中SP³鍵與SP²鍵的含量。類(lèi)金剛鉆石薄膜層(DLC)可以由等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PACVD)、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)、脈沖真空弧光等離子體沉積等技術(shù)沉積制備。在這些方法中，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)方法具有沉積溫度低，繞鍍性好，制備的薄膜均勻致密等諸多特點(diǎn)而成為最常用的方法。?