[實用新型]一種金屬掩模板組件裝配中心

有效

• 申請號: 201420559206.3
• 申請日: 2014-09-27
• 公開（公告）號: CN204221199U
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 魏志凌;王武懷;馮顧問
• 申請（專利權）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: B23K26/38
• 分類號: B23K26/38;B23K26/21;B23K26/70;C23C14/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型屬于激光切割領域，具體涉及一種金屬掩模板組件裝配中心。

背景技術

有機發光顯示器（Organic?Light-Emitting?Diode，簡稱OLED）是下一代的顯示技術，與目前使用的液晶顯示器(?Liquid?Crystal?Display?,簡稱LCD)顯示技術相比，具有可視角大，色彩艷麗，功耗低等優點，會逐漸替代目前主流的液晶顯示技術。

在OLED顯示器面板的制作過程中，其中有機層的沉積會使用到掩模板組件，圖1所示為采用掩模板組件蒸鍍有機材料的示意圖。掩模板組件由掩模板10及掩模外框11構成，掩模板10由于比較薄，在蒸鍍前會通過相關工藝固定在掩模外框11上，圖2所示為掩模板固定在掩模外框11上的平面示意圖。蒸鍍時，掩模板10借助掩模外框11固定在支撐臺12上，蒸鍍源13中的有機材料通過蒸發擴散至掩模板10下方，掩模板10上在一定的位置設置有開口100，有機材料通過開口100沉積在沉積基板14上對應的位置處，形成有機沉積層。

在技術要求上，有機沉積層的沉積質量對后期產品質量有非常大的影響，故在蒸鍍沉積過程中對沉積基板14上沉積區域的邊緣精度及均勻性要求非常高。為了能夠實現有機材料很好的蒸鍍到沉積基板14上，必須減少掩模板開口邊緣對有機沉積層的影響，即減少如圖3所示的蒸鍍效應（由于掩模板開口邊緣對有機材料130沉積的遮擋影響，導致有機沉積層131邊緣厚度不均勻），掩模板的開口截面往往設計成圖4所示的“凹形”結構，該“凹形”結構一般是通過化學蝕刻工藝制得，然而基于蝕刻工藝的掩模板制作技術會對環境帶來污染。

基于此，業界希望采用環境友好的工藝制作掩模板，以期在不損害環境的前提下制作能夠滿足OLED有機層沉積用的掩模板，通過激光切割工藝制作掩模板具有環境友好的優點，但傳統激光設備切割薄材形成的開口形貌如圖3所示，如此形貌的開口帶來的缺陷如上所述，其不能滿足OLED顯示器面板有機層高質量沉積的要求。

故此，業界亟需探索新的方式制作掩模板，以期在滿足環境友好的前提下，能夠較好的滿足掩模板高質量開口的要求。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型提供了一種金屬掩模板組件裝配中心，旨在克服現有技術中的缺陷，以更好的滿足具有高精密開口的掩模板的切割應用。

根據本專利背景技術中對現有技術所述，目前OLED蒸鍍用掩模板制作所使用的方法有兩種：其一，通過蝕刻工制作橫截面為“凹形”結構的開口，然而基于蝕刻工藝的掩模板制作技術會對環境帶來污染；其二，通過激光切割工藝制作掩模板具有環境友好的優點，但傳統激光設備切割薄材形成的開口會帶來蒸鍍效應。

本實用新型所提供了一種金屬掩模板組件裝配中心，其包括：機臺，所述機臺作為所述金屬掩模板組件裝配中心的支撐基臺；繃網組件，所述繃網組件固定安裝在所述機臺上，其上設置有若干夾持機構，所述金屬掩模板側邊可通過所述繃網組件的夾持機構夾持并繃拉達到表面平整；掩模板載臺，所述掩模板載臺用于承載未經所述繃網組件繃拉的金屬掩模板片材，所述掩模板載臺包括掩模支撐板和支撐板驅動裝置，所述掩模支撐板在所述支撐板驅動裝置的驅動下可以在垂直方向上運動，從而調整所述掩模支撐板上表面相對所述繃網組件夾持面所在位置；掩模外框載臺，所述掩模外框載臺用于承載掩模外框，所述掩模外框用于固定所述金屬掩模板，所述掩模外框載臺能夠調整所述掩模外框的的水平高度；運動導軌，所述運動導軌包括X軸導軌、Y軸導軌以及Z軸導軌，所述Y軸導軌直接或間接的固定安裝在所述機臺上，所述X軸導軌設置在所述Y軸導軌上，且可在所述Y軸導軌上進行Y軸方向的運動，所述Z軸導軌設置在所述X軸導軌上，所述Z軸導軌可以在X軸導軌上進行X軸方向的運動；所述金屬掩模板組件裝配中心還包括激光斜切裝置，所述激光斜切裝置上傾斜設置有可繞一平行于Z軸導軌的軸線進行旋轉的激光切割頭，所述激光斜切裝置直接或間接安裝在所述Z軸導軌上，可隨Z軸導軌在X軸導軌、Y軸導軌上進行X、Y軸向的運動，也可以在Z軸導軌上做Z軸方向的運動，所述激光斜切裝置可對繃拉在所述繃網組件上的所述金屬掩模板片材進行切割，形成掩模開口；激光焊接裝置，所述激光焊接裝置包括一激光焊接頭，所述金屬掩模板通過所述激光焊接頭發射的激光焊接固定在所述掩模外框上。

本實用新型提供的金屬掩模板組件裝配中心能夠切割出開口側壁為傾斜面的掩模板，所述掩模板的開口截面為梯形結構，其能夠避免掩模板在蒸鍍沉積有機材料時產生蒸鍍效應。