[實(shí)用新型]一種金屬掩模板切割設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420559200.6
• 申請(qǐng)日: 2014-09-27
• 公開（公告）號(hào): CN204221198U
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏志凌;王武懷;孫杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號(hào): B23K26/38
• 分類號(hào): B23K26/38;B23K26/08;B23K26/70
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于激光切割領(lǐng)域，具體涉及一種金屬掩模板切割設(shè)備。?

背景技術(shù)

有機(jī)發(fā)光顯示器（Organic?Light-Emitting?Diode，簡稱OLED）是下一代的顯示技術(shù)，與目前使用的液晶顯示器(?Liquid?Crystal?Display?,簡稱LCD)顯示技術(shù)相比，具有可視角大，色彩艷麗，功耗低等優(yōu)點(diǎn)，會(huì)逐漸替代目前主流的液晶顯示技術(shù)。?

在OLED顯示器面板的制作過程中，其中有機(jī)層的沉積會(huì)使用到掩模板，圖1所示為采用掩模板蒸鍍有機(jī)材料的示意圖。掩模板10由于比較薄，在蒸鍍前會(huì)通過相關(guān)工藝固定在掩模外框11上，圖2所示為掩模板固定在掩模外框11上的平面示意圖。蒸鍍時(shí)，掩模板10借助掩模外框11固定在支撐臺(tái)12上，蒸鍍?cè)?3中的有機(jī)材料通過蒸發(fā)擴(kuò)散至掩模板10下方，掩模板10上在一定的位置設(shè)置有開口100，有機(jī)材料通過開口100沉積在沉積基板14上對(duì)應(yīng)的位置處，形成有機(jī)沉積層。?

在技術(shù)要求上，有機(jī)沉積層的沉積質(zhì)量對(duì)后期產(chǎn)品質(zhì)量有非常大的影響，故在蒸鍍沉積過程中對(duì)沉積基板14上沉積區(qū)域的邊緣精度及均勻性要求非常高。為了能夠?qū)崿F(xiàn)有機(jī)材料很好的蒸鍍到沉積基板14上，必須減少掩模板開口邊緣對(duì)有機(jī)沉積層的影響，即減少如圖3所示的蒸鍍效應(yīng)（由于掩模板開口邊緣對(duì)有機(jī)材料130沉積的遮擋影響，導(dǎo)致有機(jī)沉積層131邊緣厚度不均勻），掩模板的開口截面往往設(shè)計(jì)成圖4所示的“凹形”結(jié)構(gòu)，該“凹形”結(jié)構(gòu)一般是通過化學(xué)蝕刻工藝制得，然而基于蝕刻工藝的掩模板制作技術(shù)會(huì)對(duì)環(huán)境帶來污染。?

基于此，業(yè)界希望采用環(huán)境友好的工藝制作掩模板，以期在不損害環(huán)境的前提下制作能夠滿足OLED有機(jī)層沉積用的掩模板，通過激光切割工藝制作掩模板具有環(huán)境友好的優(yōu)點(diǎn)，但傳統(tǒng)激光設(shè)備切割薄材形成的開口形貌如圖3所示，如此形貌的開口帶來的缺陷如上所述，其不能滿足OLED顯示器面板有機(jī)層高質(zhì)量沉積的要求。?

故此，業(yè)界亟需探索新的方式制作掩模板，以期在滿足環(huán)境友好的前提下，能夠較好的滿足掩模板高質(zhì)量開口的要求。?

實(shí)用新型內(nèi)容

有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種金屬掩模板切割設(shè)備，旨在克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，以更好的滿足具有高精密開口的掩模板的切割應(yīng)用。?

根據(jù)本專利背景技術(shù)中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，目前OLED蒸鍍用掩模板制作所使用的方法有兩種：其一，通過蝕刻工制作橫截面為“凹形”結(jié)構(gòu)的開口，然而基于蝕刻工藝的掩模板制作技術(shù)會(huì)對(duì)環(huán)境帶來污染；其二，通過激光切割工藝制作掩模板具有環(huán)境友好的優(yōu)點(diǎn)，但傳統(tǒng)激光設(shè)備切割薄材形成的開口會(huì)帶來蒸鍍效應(yīng)。?

本實(shí)用新型所提供了一種金屬掩模板切割設(shè)備，其包括：機(jī)臺(tái)；繃網(wǎng)組件，所述繃網(wǎng)組件固定安裝在所述機(jī)臺(tái)上，其上設(shè)置有若干夾持機(jī)構(gòu)，所述金屬掩模板側(cè)邊可通過所述繃網(wǎng)組件的夾持機(jī)構(gòu)夾持并繃?yán)_(dá)到表面平整；運(yùn)動(dòng)導(dǎo)軌，所述運(yùn)動(dòng)導(dǎo)軌包括X軸導(dǎo)軌、Y軸導(dǎo)軌以及Z軸導(dǎo)軌，所述Y軸導(dǎo)軌直接或間接的固定安裝在所述機(jī)臺(tái)上，所述X軸導(dǎo)軌設(shè)置在所述Y軸導(dǎo)軌上，且可在所述Y軸導(dǎo)軌上進(jìn)行Y軸方向的運(yùn)動(dòng)，所述Z軸導(dǎo)軌設(shè)置在所述X軸導(dǎo)軌上，所述Z軸導(dǎo)軌可以在X軸導(dǎo)軌上進(jìn)行X軸方向的運(yùn)動(dòng)；所述金屬掩模板切割設(shè)備還包括激光斜切裝置，所述激光斜切裝置上傾斜設(shè)置有可繞一平行于Z軸導(dǎo)軌的軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的激光切割頭，所述激光斜切裝置直接或間接安裝在所述Z軸導(dǎo)軌上，可隨Z軸導(dǎo)軌在X軸導(dǎo)軌、Y軸導(dǎo)軌上進(jìn)行X、Y軸方向的運(yùn)動(dòng)，也可以在Z軸導(dǎo)軌上做Z軸方向的運(yùn)動(dòng)，所述激光斜切裝置可對(duì)繃?yán)谒隹嚲W(wǎng)組件上的金屬掩模板進(jìn)行切割，形成掩模開口。?

本實(shí)用新型提供的金屬掩模板切割設(shè)備能夠切割出開口側(cè)壁為傾斜面的掩模板，所述掩模板的開口截面為梯形結(jié)構(gòu)，其能夠避免掩模板在蒸鍍沉積有機(jī)材料時(shí)產(chǎn)生蒸鍍效應(yīng)。?

進(jìn)一步，本實(shí)用新型中所涉及的激光斜切裝置包括支撐機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、滑臺(tái)機(jī)構(gòu)、激光切割頭，所述支撐機(jī)構(gòu)用來支撐所述激光斜切裝置，所述激光斜切裝置其它所有部件均直接或間接安裝在所述支撐機(jī)構(gòu)上，所述激光斜切裝置通過所述支撐機(jī)構(gòu)直接或間接安裝在所述Z軸導(dǎo)軌上；所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)直接安裝在所述支撐機(jī)構(gòu)上，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括動(dòng)力旋轉(zhuǎn)裝置、旋轉(zhuǎn)端部，所述旋轉(zhuǎn)端部可在所述動(dòng)力旋轉(zhuǎn)裝置的帶動(dòng)下進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；所述滑臺(tái)機(jī)構(gòu)固定在所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的所述旋轉(zhuǎn)端部下方；所述激光切割頭傾斜的安裝在所述滑臺(tái)機(jī)構(gòu)上；通過所述滑臺(tái)機(jī)構(gòu)，可以調(diào)整所述激光切割頭所發(fā)射激光的焦點(diǎn)相對(duì)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)中心軸線的位置。?