[實用新型]真空刻蝕線傳送裝置有效
| 申請號： | 201420556672.6 | 申請日： | 2014-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN204157167U | 公開（公告）日： | 2015-02-11 |
| 發明（設計）人： | 劉愛斌;鮑藝;鄭貴平 | 申請（專利權）人： | 昆山鼎鑫電子有限公司 |
| 主分類號： | H05K3/00 | 分類號： | H05K3/00 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 鄭瑋 |
| 地址： | 215316 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 刻蝕 傳送 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空刻蝕線傳送裝置，包括外框架，架設于兩側外框架之間的旋轉桿，所述旋轉桿上套設有若干主滾輪，所述主滾輪在所述旋轉桿上的分布分為兩端的密集區和中部的稀疏區，其特征在于，在所述稀疏區內，兩個相鄰的主滾輪之間設有至少一個輔助滾輪，所述輔助滾輪的外徑小于所述主滾輪的外徑。
2.如權利要求1所述的真空刻蝕線傳送裝置，其特征在于，所述主滾輪的外徑為30mm，所述輔助滾輪的外徑為25mm。
3.如權利要求1所述的真空刻蝕線傳送裝置，其特征在于，所述旋轉桿的長度為890mm，所述稀疏區的長度為700mm，所述密集區的長度為95mm。
4.如權利要求1所述的真空刻蝕線傳送裝置，其特征在于，所述密集區內，兩個相鄰的主滾輪之間的間距為15mm，所述稀疏區內，兩個相鄰的主滾輪之間的距離為60mm。
5.如權利要求4所述的真空刻蝕線傳送裝置，其特征在于，在所述稀疏區內，兩個相鄰的主滾輪之間的所述輔助滾輪的數量為2～3個。
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