[實用新型]一種滾筒式納米壓印設備

有效

• 申請號: 201420556034.4
• 申請日: 2014-09-25
• 公開（公告）號: CN204116806U
• 公開（公告）日: 2015-01-21
• 發明（設計）人: 龐俊超;陳艷
• 申請（專利權）人: 中國科學院深圳先進技術研究院
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 張海英;韓國勝

1.一種滾筒式納米壓印設備，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)上間隔設置有兩個支架(10)，兩個所述支架(10)之間設置有可轉動的對輥結構、以及扣設于所述對輥結構上的氮氣罩(4)；所述對輥結構包括上下對應且相互之間間隙可調的第一壓輥(7)和第二壓輥(8)，所述第二壓輥(8)的外側設置有具有圖案的模版(801)；所述氮氣罩(4)的側面設置有與所述第一壓輥(7)和所述第二壓輥(8)之間的出口對應的紫外燈(5)。

2.根據權利要求1所述的滾筒式納米壓印設備，其特征在于，每個所述支架(10)開設有滑動槽，所述滑動槽中設置有調節機構，所述第二壓輥(8)與所述調節機構連接。

3.根據權利要求2所述的滾筒式納米壓印設備，其特征在于，所述調節機構包括從上至下設置于所述滑動槽中的第三滑塊(14)與下滑塊，所述第三滑塊(14)連接有轉動時帶動所述第三滑塊(14)沿著所述下滑塊前后滑動并使得所述下滑塊進行上下運動的調節螺桿(16)，所述下滑塊的底部設置有彈簧(11)，所述第二壓輥(8)與所述下滑塊連接。

4.根據權利要求3所述的滾筒式納米壓印設備，其特征在于，所述滑動槽為包括沿所述支架(10)的寬度方向開設的第一凹槽(1001)、及設置于所述第一凹槽(1001)的底部并沿所述支架(10)的高度方向開設的第二凹槽(1002)組成的T型結構槽；所述下滑塊包括與所述第三滑塊(14)配合的第二滑塊(13)，以及連接在所述第二滑塊(13)和所述彈簧(11)之間的第一滑塊(12)，其中，所述第二滑塊(13)與所述第三滑塊(14)位于所述第一凹槽(1001)中，所述第一滑塊(12)位于所述第二凹槽(1002)中，所述第二壓輥(8)與所述第一滑塊(12)連接。

5.根據權利要求3或4所述的滾筒式納米壓印設備，其特征在于，所述第三滑塊(14)與所述下滑塊之間通過楔形面配合。

6.根據權利要求4所述的滾筒式納米壓印設備，其特征在于，所述支架(10)上設置有高度規(15)，所述高度規(15)的底部與所述第二滑塊(13)相接觸。

7.根據權利要求1所述的滾筒式納米壓印設備，其特征在于，兩個所述支架(10)之間還設置有第三壓輥(9)，所述第三壓輥(9)位于所述第二壓輥(8)的一側且與所述第二壓輥(8)位于同一水平高度。

8.根據權利要求1所述的滾筒式納米壓印設備，其特征在于，所述第一壓輥(7)的一端連接有第一齒輪(17)，所述第二壓輥(8)的一端連接有第二齒輪(18)，所述第一齒輪(17)與所述第二齒輪(18)相嚙合，所述第二齒輪(18)連接有驅動裝置。

9.根據權利要求8所述的滾筒式納米壓印設備，其特征在于，所述驅動裝置包括與所述第二齒輪(18)連接的聯軸器，所述聯軸器連接有步進電機，所述步進電機連接有控制器。

10.根據權利要求9所述的滾筒式納米壓印設備，其特征在于，位于左側的所述支架(10)的外側設置有左箱體(2)，位于右側的所述支架(10)的外側設置有右箱體(3)，其中，所述第一齒輪(17)、所述第二齒輪(18)、所述驅動裝置均設置于所述左箱體(2)中。