[實(shí)用新型]一種內(nèi)置磁體的射釘凹槽

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420554672.2
• 申請日: 2014-09-25
• 公開（公告）號(hào): CN204209642U
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張恩鐸
• 申請（專利權(quán)）人: 天津恩鐸機(jī)械有限公司
• 主分類號(hào): B25C7/00
• 分類號(hào): B25C7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種射釘機(jī)構(gòu)，具體為一種內(nèi)置磁體的射釘凹槽。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的射釘機(jī)構(gòu)在進(jìn)行自動(dòng)射釘時(shí)，經(jīng)常由于射釘在凹槽內(nèi)的位置不固定導(dǎo)致射釘失敗，需要人工進(jìn)行位置校正，既影響了工作效率，又增加了人力成本，同時(shí)也會(huì)提高操作危險(xiǎn)性。

實(shí)用新型內(nèi)容

為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種可有效固定射釘位置的內(nèi)置磁體的射釘凹槽。

本實(shí)用新型提供的內(nèi)置磁體的射釘凹槽，包括射釘凹槽滑道，以及三面環(huán)繞所述射釘凹槽滑道的射釘凹槽本體，所述射釘凹槽本體的內(nèi)部設(shè)置有磁體。

優(yōu)選地，所述磁體至少有3個(gè)。

優(yōu)選地，至少1個(gè)磁體位于所述射釘凹槽滑道的正下方。

優(yōu)選地，至多2個(gè)磁體分別位于所述射釘凹槽滑道的兩側(cè)。

本實(shí)用新型的射釘凹槽，通過在內(nèi)部設(shè)置磁體，使得射釘在凹槽內(nèi)的位置符合射釘操作的需要，無需人工進(jìn)行校正，提高了操作的自動(dòng)化水平，提高了工作效率。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的射釘凹槽的俯視圖

圖2為本實(shí)用新型的射釘凹槽的側(cè)視圖

圖中標(biāo)號(hào)說明如下：

1-射釘凹槽滑道；2-射釘凹槽本體；3-磁體。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式做出簡要說明。

根據(jù)附圖所示，一種內(nèi)置磁體的射釘凹槽，包括射釘凹槽滑道1，以及三面環(huán)繞所述射釘凹槽滑道的射釘凹槽本體2，射釘凹槽本體2的內(nèi)部設(shè)置有3個(gè)磁體3。

其中，1個(gè)磁體位于釘凹槽滑道1的正下方，2個(gè)磁體分別位于射釘凹槽滑道1的兩側(cè)。