[實用新型]一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜

有效

• 申請號: 201420522421.6
• 申請日: 2014-09-11
• 公開（公告）號: CN204109454U
• 公開（公告）日: 2015-01-21
• 發明（設計）人: 李林克;朱文峰;楊忠芝;吳建海
• 申請（專利權）人: 東莞市納利光學材料有限公司
• 主分類號: B32B3/24
• 分類號: B32B3/24;B32B27/12;B32B17/02;B32B9/04;B32B33/00
• 代理公司: 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215
• 代理人: 李玉平

1.一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其由上到下依次包括保護膜層、保護膠層、使用膜層、剝離膠層、剝離膜層，保護膠層的上表面、下表面分別與保護膜層、使用膜層貼合，剝離膠層的上表面、下表面分別與使用膜層、剝離膜層貼合，其特征在于：使用膜層包括抗電磁波層、貼合于抗電磁波層下表面的高擴散層、以及貼合于高擴散層下表面的高硬度層，抗電磁波層的上表面與保護膠層的下表面貼合，高硬度層的下表面與剝離膠層的上表面貼合，保護膠層和剝離膠層均為彩色硅膠涂層。

2.根據權利要求1所述的一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其特征在于：所述保護膠層內均勻分布有若干第一氣孔，第一氣孔的平均直徑為?9~15μm。

3.根據權利要求1所述的一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其特征在于：所述剝離膠層內均勻分布有若干第二氣孔，第二氣孔的平均直徑為?9~15μm。

4.根據權利要求1所述的一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其特征在于：所述剝離膜層的上表面開設有若干凹槽，凹槽的深寬比為1:1.5~2.5。

5.根據權利要求4所述的一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其特征在于：所述凹槽的深度為0.5~1.0μm。

6.根據權利要求1所述的一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其特征在于：所述抗電磁波層是由顆粒大小為納米級的金屬粉體組成的金屬納米層。

7.根據權利要求1所述的一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其特征在于：所述保護膜層、所述使用膜層和所述剝離膜層均為透光率大于92%、霧度小于1%的PET薄膜。

8.根據權利要求1所述的一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其特征在于：所述高擴散層和所述高硬度層之間設置有玻璃纖維層。

9.根據權利要求1所述的一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其特征在于：所述保護膜層、所述剝離膜層的厚度均為20~60μm，所述使用膜層的厚度為50~200μm，所述保護膠層、所述剝離膠層的厚度均為10~40μm。

10.根據權利要求1所述的一種高硬度高擴散抗電磁波保護膜，其特征在于：所述抗電磁波層、所述高擴散層和所述高硬度層的厚度比為1:6~8:1.5~2.5。