[實用新型]一種半透光鍍膜機用電極結構有效
| 申請號: | 201420512803.0 | 申請日: | 2014-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN204198842U | 公開(公告)日: | 2015-03-11 |
| 發明(設計)人: | 馬曉明 | 申請(專利權)人: | 惠州建邦精密塑膠有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/26 | 分類號: | C23C14/26 |
| 代理公司: | 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245 | 代理人: | 蔣劍明 |
| 地址: | 516006 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 透光 鍍膜 用電 結構 | ||
技術領域
本實用新型涉及真空鍍膜技術領域,具體是指一種半透光鍍膜機用電極結構。
背景技術
在過去的幾十年中,光學薄膜鍍制設備出現了令人矚目的變化。現有真空鍍膜技術一般在10-2Pa~10-3Pa的真空中加熱金屬、金屬化合物或其他鍍膜材料,使其在極短的時間內蒸發,從而把純凈的原子沉積到基板表面上形成鍍膜層,屬于物理氣相沉積(PVD)。由于鍍膜過程中幾乎無雜質進入,可以使鍍層質量十分優異。真空鍍膜室的真空度、鍍膜材料的蒸發速率、基本和蒸發源的間距,以及基板表面狀態和溫度等都是影響鍍膜層質量的因素。
半透光鍍膜是利用強大電壓將鍍膜源鎢絲加熱,把掛在鎢絲上的鍍材熔解,再升高鎢絲電壓使用鍍材蒸發、并以離子的形態飛散到各方面并附著于被鍍件上,經冷卻后最終形成半透光的膜層。然而,現有的蒸發鎢絲對鍍材的蒸發率較低,金屬鍍材蒸發過程中金屬離子分布不均勻,導致產品上的鍍膜層膜厚不均勻影響透光率,電極蒸發電壓不穩定,最終導致了電鍍爐中的金屬離子呈不均勻狀態分布。
另外,如何降低鍍膜成本、提高鍍材的蒸發率、提高涂層的穩定性和均勻性能也是目前正在研究的方向。
實用新型內容
本實用新型的目的是克服現有技術中的不足之處,提供一種提高鍍材的蒸發率的半透光鍍膜機用電極結構。
本實用新型的目的是通過以下技術方案來實現的:
一種半透光鍍膜機用電極結構,包括設置在電鍍爐內的形成正負電極用的兩個電極板,所述兩個電極板之間通過鎢絲連接,其特征在于:所述鎢絲上設有折彎部,且所述折彎部設有截面積從前端至后端依次增大的蒸發主體部。
具體的,所述兩個電極板為一組電極,所述電鍍爐內設有從爐內下端到爐內上端依次平行排列的多組電極。
具體的,所述多組電極為20組,且首端前兩組和末端后兩組電極的長度大于中部位置的電極長度。
優選的,首端前兩組和末端后兩組電極的長度為20cm。
優選的,所述多組電極相鄰組之間的間距為7cm。
本實用新型相比現有技術具有以下優點及有益效果:
1、本實用新型通過采用折彎型鎢絲且折彎部設有截面積從前端至后端依次增大的蒸發主體部,使鎢絲蒸發面積越大,從而使蒸發效果最好、蒸發效率也最高,蒸發效率可達到99.5%,提高了素材利用率,降低了生產成本。
2、本實用新型針對目前電鍍爐不同長度的多組電極進行空間位置調整,調整后可使每組電極可獲得恒定的蒸發電流及恒定的蒸發電壓,進而使金屬離子均勻分布于電鍍爐內。
附圖說明
圖1為本實用新型半透光鍍膜機用電極結構中的鎢絲結構示意圖。
圖2為本實用新型的半透光鍍膜機用電極結構的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合實施例及附圖對本實用新型作進一步詳細的描述,但本實用新型的實施方式不限于此。
實施例
如圖1與圖2所示,本實施例提供一種半透光鍍膜機用電極結構,包括設置在電鍍爐1內的形成正負電極用的兩個電極板2,所述兩個電極板2之間通過鎢絲3連接,所述鎢絲3上設有折彎部4,且所述折彎部設有截面積從前端至后端依次增大的蒸發主體部5。
根據蒸發效率公式:
對比蒸發前鎢絲和蒸發后的重量,計算出多種形態鎢絲對鍍材的蒸發效率,包括但不限于山形、繞型、弧線形、直線型以及本實施例采用的從前端至后端依次增大類似鍋型的鎢絲,并進行真空電鍍驗證得出:本實施例的采用折彎型且折彎部設有截面積從前端至后端依次增大的蒸發主體部(類似鍋型)的鎢絲蒸發面積最大,其蒸發效果最好,蒸發效率也最高,蒸發效率可達到99.5%。
所述兩個電極板1為一組電極6,所述電鍍爐內設有從爐內下端到爐內上端依次平行排列的多組電極6。
所述多組電極6為20組,且首端前兩組和末端后兩組電極的長度大于中部位置的電極長度。
優選的,首端前兩組和末端后兩組電極的長度為20cm。
優選的,所述多組電極相鄰組之間的間距為7cm。
本實用新型的半透光鍍膜機用電極結構使用時,在鍍膜的過程中,待鍍膜的工件排列于兩個電極板的外周,由于多組電極相鄰組之間的間距均勻且首端前兩組和末端后兩組電極的長度大于中部位置的電極長度,保證了位于電鍍爐底端和頂端也有與中部一致的等離子密度,使金屬離子均勻分布于電鍍爐內;而且,蒸發主體部(類似鍋型)的鎢絲蒸發面積最大,等離子體密度提高,更多的帶正點的離子在工件表面沉積,從而提高鍍膜速率及效率。
上述實施例為本實用新型較佳的實施方式,但本實用新型的實施方式并不受上述實施例的限制,其他的任何未背離本實用新型的精神實質與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化,均應為等效的置換方式,都包含在本實用新型的保護范圍之內。
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