[實用新型]無害化資源化干式潔具的給粉裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420511345.9
• 申請日: 2014-09-07
• 公開（公告）號: CN204049479U
• 公開（公告）日: 2014-12-31
• 發(fā)明（設計）人: 張珂
• 申請（專利權）人: 上海伊潔環(huán)保設備工程有限公司
• 主分類號: A47K11/03
• 分類號: A47K11/03
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種無害化資源化干式潔具，尤其涉及該潔具的給粉裝置。

背景技術

給粉裝置用于提供定量的粉劑，在專利文獻CN?203458313?U中，公開了一種給粉裝置的結構，參看圖6，其包括設有兩下粉口91的漏斗形結構的粉劑箱9和與每下粉口連接的計量器8，每計量器上設有相連接的兩氣缸81和兩隔板。該種給粉裝置共包括4個隔板和4個氣缸，4個氣缸的動作和4個隔板的位置需協(xié)調，才能保證粉劑的定量供給，結構上顯得較復雜；工作原理也較復雜。這是現(xiàn)有技術的不足之處。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種結構更簡單的給粉裝置。

本實用新型的無害化資源化干式潔具的給粉裝置，包括粉劑箱和計量器，其特征是：所述粉劑箱的下部僅設一下粉口；所述計量器包括正對所述下粉口的通道、可截斷該通道的上、下隔板，以及通過連桿與該兩隔板均連接的一氣缸，該上、下隔板上各設一通孔，該兩通孔相互錯位。

所述粉劑箱的側壁上還設有用于感知粉劑箱內(nèi)部是否裝有粉劑的傳感器。

所述粉劑箱呈漏斗形。

由于給粉裝置在供應定量的粉劑的同時，僅具有一個氣缸和兩個隔板及一下粉口，在結構上更簡單，工作原理更為簡便了。

附圖說明

圖1是本實用新型的給粉裝置的正視圖。

圖2是氣缸縮回時圖1的A-A剖視圖。

圖3是圖2的局部放大圖。

圖4是氣缸伸長時圖1的A-A剖視圖。

圖5是圖4的局部放大圖。

圖6是現(xiàn)有的給粉裝置的結構示意圖。

具體實施方式

現(xiàn)結合附圖和實施例對本實用新型作進一步詳細說明。

參看圖1~圖2，本實用新型的給粉裝置由漏斗形的粉劑箱1和計量器2構成。

粉劑箱1用于盛載粉劑，其下部僅設一下粉口11，側壁上還設有傳感器12，用于感知粉劑箱1內(nèi)部是否裝有粉劑，當粉劑不足時，可發(fā)出信號提醒，避免出現(xiàn)給粉裝置處于無粉劑工作的狀態(tài)。

配合參看圖3~圖5，計量器2包括正對下粉口11的通道20，及可截斷該通道20的兩隔板，兩隔板位于通道20的上、下位置，上隔板21設有通孔210，下隔板22上設有通孔220，兩通孔210、220相互錯位，兩隔板均連接于一連桿23，并通過該連桿23與一氣缸24相連。氣缸24伸長或縮短時，可帶動兩隔板同時做左右移動。相對于現(xiàn)有技術，在結構和工作原理上，本實用新型的給粉裝置更加簡便。

當氣缸24處于縮回狀態(tài)時，兩隔板處于極左位置，通孔210位于通道20內(nèi)而通孔220位于通道20外，僅下隔板22截斷通道20，粉劑箱中的粉劑沿通道20經(jīng)過通孔210到達下隔板22上并靜止于此，保證在不需供應粉劑時，無粉劑下落。同時，下隔板22之上而上隔板之下的通道容積即限定了每次等待下落的粉劑的量，也即是每次定量供應的粉劑的量。

當需要定量供應粉劑時，氣缸伸長并驅動兩隔板同時向右移動，直至其處于極右位置，在極右位置時，通孔210位于通道20外而通孔220位于通道20內(nèi)，僅上隔板截斷通道，貯存于兩隔板之間的通道容積的粉劑在重力作用下經(jīng)由通孔220流出，定量供應粉劑的動作完畢后，兩隔板同時向左移動至極左位置，氣缸又處于縮回狀態(tài)，下隔板重新把通道完全截斷，粉劑不再下落，為下次定量供應粉劑作準備。

需說明的是，每次下落粉劑的動作主要是在兩隔板保持極右位置時完成。在極右位置之前，氣缸伸長；極右位置之后，氣缸縮短；氣缸伸長和縮短的兩個過程進行的時間極短，總起來看，通道內(nèi)的通孔210的面積由極大變?yōu)榱悖缓笥肿優(yōu)闃O大；通道內(nèi)的通孔220的面積由零變?yōu)闃O大，然后又變?yōu)榱悖搩蓚€過程中也有少量粉劑下落，但其下落粉劑的量是次要的。

以上所述僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型做任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本實用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術人員，在不脫離本實用新型技術方案的范圍內(nèi)，當可利用上述揭示的技術內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術方案的內(nèi)容，依據(jù)本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內(nèi)。