[實用新型]一種內層線路板曝光對位結構有效
| 申請號: | 201420493325.3 | 申請日: | 2014-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN204014266U | 公開(公告)日: | 2014-12-10 |
| 發明(設計)人: | 許曉龍;陳德章;李加余 | 申請(專利權)人: | 勝宏科技(惠州)股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K1/02 | 分類號: | H05K1/02;H05K3/00 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 任海燕 |
| 地址: | 516211 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 內層 線路板 曝光 對位 結構 | ||
技術領域
本實用新型屬于線路板生產制作領域,具體涉及一種內層線路板曝光對位結構。
背景技術
隨著線路板制作技術發展,線路板的要求越來越高,使得一塊線路板內壓合的層數越來越多,制作技術和壓合技術要求要來越高。在制作多層線路板時,首先將多層內層板逐層制作好,然后將多成內層板進行對位壓合,制成一塊多層線路板。在壓合前的具體工序為:先對內層線路板進行開料,再對內層線路板進行表面處理,并在線路板的表面貼上一層干膜,同時制作內層線路板所需要的菲林,對內層線路板進行曝光實現圖像轉移,然后對線路板進行線路板蝕刻,檢測蝕刻的線路,進行線路板的銅面粗化,制作好的多層線路板進行排版,壓合成一塊線路板。目前,通常采用川寶自動曝光機制作多層線路板的內層板,由于首次采用菲林在內層線路板上曝光顯影時需要設置一個基準點,使得后續的內層線路板均勻這一個基準點為標準,壓合時在允許的誤差值內,行業內允許的誤差范圍在2mm以內,提高線路板的品質,若果沒有在線路板上設置基準點,則容易造成不同層的線路板之間沒有基準參照物,到線路板曝光顯影時出現偏位,將使整批量線路板存在問題,在生產內層線路板時該工序的很難發現問題,但是流入后工序造成壓合后無法打靶、鉆孔鉆到板外、外層無法CCD對位等問題,導致線路板對位慢,生產效率低等以及大批量的內層線路板無法使用,增加了不良品率,增加了企業生產成本以及經濟負擔。
發明內容
有鑒于此,本實用新型要解決的技術問題是提供一種內層板與菲林快速對位,提高內層線路板與菲林之間的對位精度以及線路板品質的內層線路板曝光對位結構。
為了解決上述技術問題,本實用新型采用如下方案實現:一種內層線路板曝光對位結構,包括待曝光的內層線路板,內層線路板的四個對角上分別設有一個對位件,所述的對位件由相互垂直且交叉于基點的兩根直線組成,兩直線之間呈十字形,位于內層線路板的四個對角上的各個對位件之間的基點在同一平面上,四個基點組成的局域與貼菲林曝光的圖形局域相同,以基點為中心距內層線路板板邊較近的直線段的長度小于位于菲林局域內的直線段的長度。
作為本實用新型的改進,所述的以基點為中心距內層線路板板邊較近的直線段的長度為2mm。
作為本實用新型的改進,所述兩個相鄰的對位件的直線相對應,且對位件的直線與相臨的對位件的直線相向延長為一直線。
作為本實用新型的改進,所述的四個對位件的基點組成的局域為矩形。
與現有技術相比,本實用新型通過在內層線路板的四個角上分別設置一個對位件,且內層線路板曝光顯影的區域置于對位件的基點內,使得內層線路板在曝光對位時,只需要查看菲林的對角是否完全防止在內層線路板上,實現菲林與內層線路板之間的快速對位,提高了內層線路板曝光顯影質量和速度,曝光后以及蝕刻后的內層線路板只需要肉眼就能夠快速有效的檢查出內層線路板是否存在曝光偏差,使得多層內層線路板在排版的時候內層線路板的線路能夠在固定的局域內,減少壓合后在下一步工序中才發現內層線路板存在的問題,減少了內層線路板的損耗,及時監控線路板曝光的品質,防止異常的線路板流入后續中,降低了企業生產成本。
附圖說明
圖1 為本實用新型機構示意圖。
圖2為本實用新型實施例1的機構示意圖。
圖3為本實用新型實施例2的機構示意圖。
圖4為本實用新型實施例3的機構示意圖。
具體實施方式
為了讓本領域的技術人員更好地理解本實用新型的技術方案,下面結合附圖對本實用新型作進一步闡述。
如圖1所示,一種內層線路板曝光對位結構,包括待曝光的內層線路板1,內層線路板1的四個對角上分別設有一個對位件2。所述的對位件2由相互垂直且交叉于基點21的兩根直線組成,兩直線之間呈十字形。位于內層線路板1的四個對角上的各個對位件之間的基點21在同一平面上,且四個對位件的基點21組成的局域為矩形,四個基點21組成的矩形局域與貼菲林曝光的圖形局域相同,以基點為中心距內層線路板1板邊較近的直線段的長度小于位于菲林局域內的直線段的長度。所述的以基點為中心距內層線路板1板邊較近的直線段的長度為2mm。所述兩個相鄰的對位件2的直線相對應,且對位件的直線與相臨的對位件的直線相向延長為一直線。
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