[實用新型]一種氨水溶液自動配置供應裝置

有效

• 申請號: 201420491657.8
• 申請日: 2014-08-29
• 公開（公告）號: CN204147826U
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發明（設計）人: 熊誠雷;魏海霞
• 申請（專利權）人: 洛陽單晶硅集團有限責任公司
• 主分類號: B01F15/04
• 分類號: B01F15/04;B01F15/02;B08B3/08
• 代理公司: 洛陽明律專利代理事務所 41118
• 代理人: 盧洪方

?技術領域?

本實用新型屬于單晶硅拋光片生產技術領域，主要涉及一種氨水溶液自動配置供應裝置。

背景技術

單晶硅拋光片是集成電路中廣泛使用的半導體材料，高集成度的電路工藝對單晶硅拋光片表面提出超潔凈度的要求。單晶硅片進行鏡面拋光加工后，單晶硅拋光片表面受到拋光粘片蠟、拋光液等物質的污染，之后要進行拋光片的清洗，去除表面顆粒、有機物的污染。擦片清洗機是一種廣泛應用于單晶硅拋光片生產中去除硅片表面顆粒、有機物的有效清洗設備。?

擦片清洗機利用柔軟多孔的刷子轉動來擦洗硅片表面，純水通過刷子的軸心流向硅片表面，同時有氨水溶液通過噴嘴呈扇形噴射到硅片表面，使用刷子的機械擦洗及氨水溶液的化學清洗的雙重作用來清潔單晶硅片表面，?達到去除單晶硅拋光片表面污染物的目的。在清洗過程中氨水溶液濃度為擦片清洗機的關鍵工藝要素，氨水溶液濃度過低會導致顆粒去除效率的下降，但當氨水濃度超標時，單晶硅拋光片清洗后表面會殘留銨根離子，產生后道工序加工的失效。?

目前商業用途的電子級氨水原液濃度為29%（通常稱為濃氨水），需要按比例稀釋到0.10摩爾/升后方可使用。而一般配置設施是有計量泵將濃氨水從原液罐打入配置罐，同時打開純水閥門，純水注入到配置罐，兩者供應一段時間以后，同時關閉計量泵和純水閥門，濃氨水和純水在配置罐內混合稀釋到一定濃度。但受其它純水使用設備用水量的影響，經常因純水壓力波動導致配置罐進水量變化，引起稀釋溶液濃度失控；另外應生產工藝的要求，使用端需要氨水溶液以較高的壓力通過噴嘴呈扇形噴射到單晶硅拋光片表面，這就要在配置罐內維持較高的壓力，一般控制為20磅/平方英寸，但調高配置罐內中性氣體壓力，配置罐內會產生高壓，而原液罐屬于常壓，導致計量泵前后壓差不一致，計量泵工作受到影響，供應流量不準確。?

上述原因造成事后需要技術人員頻繁滴定分析氨水溶液濃度，而且靠手動配置調節，穩定性較差，經常造成設備停機或產品返工，使用效果很不理想。?

實用新型內容

鑒于現有技術中所存在的問題，本實用新型設計并公開了一種氨水溶液自動配置供應裝置，該裝置具有雙罐氣壓平衡管路和液位感應器裝置，可以自動持續向擦片清洗機穩定供應高稀釋精度、高潔凈度的氨水溶液，以解決純水壓力易波動和計量泵供應精度下降，而易造成濃度失控、增加額外勞動力、安全風險、設備待機、收率下降等問題。?

為實現上述發明目的，本實用新型所采取的具體技術方案是：一種氨水溶液自動配置供應裝置，主要是由原液罐、配置罐、氮氣供應管路、氮氣平衡管路、純水管路、氨水溶液供應管路、計量泵、控制柜構成；其中原液罐由低液位傳感器、高液位傳感器、進口手閥、出口手閥組成，原液罐進口手閥上方有一漏斗形開口；配置罐由低液位傳感器、高液位傳感器、進口手閥、出口手閥組成；原液罐出口手閥通過計量泵和配置罐進口手閥相連接。原液罐上低液位傳感器、高液位傳感器與配置罐上的低液位傳感器、高液位傳感器相對安裝在原液罐和配置罐的一側；純水管路和配置罐相連接，純水管路上依次安裝有純水壓力表、純水流量計和純水供應電磁閥;氮氣供應管路由氮氣壓力表、氮氣壓力表手閥、原液罐氮氣泄壓閥、配置罐氮氣泄壓閥、氮氣泄壓總閥、氮氣泄壓安全閥、原液罐氮氣供應手閥、原液罐氮氣壓力調節閥、配置罐氮氣供應手閥、配置罐氮氣壓力調節閥組成。原液罐和配置罐連接有氮氣供應管路，原液罐和配置罐之間連接有氮氣平衡管路，原液罐和配置罐上的氮氣泄壓閥串聯安裝在氮氣平衡管路上，氮氣泄壓總閥安裝在氮氣平衡管路的上方，兩個氮氣泄壓閥之間，氨水溶液供應管與配置罐相連接，氨水溶液供應管上端安裝有過濾器，氨水溶液供應管下端安裝排放手閥，控制柜內有控制程序，控制柜通過信號線與原液罐上的低液位傳感器、高液位傳感器、配置罐上的低液位傳感器、高液位傳感器，以及計量泵和純水電磁閥相連接。?

本實用新型所述的氨水溶液自動配置供應裝置安裝簡單、操作方便，安全性能好，配置過程自動化，所得的溶液稀釋度精度高，達到穩定產品質量，減少人工勞動力，提高工作效率的目的。?

附圖說明

圖1是本實用新型的自動配置供應裝置結構示意圖。?