[實(shí)用新型]一種同軸共焦光路實(shí)現(xiàn)場(chǎng)鏡焦平面定位的裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420479569.6
• 申請(qǐng)日: 2014-08-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN204018961U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-12-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 閆阿澤;魏小彪;張庸;姚曉峰;于海濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖北三江航天紅峰控制有限公司
• 主分類號(hào): B23K26/064
• 分類號(hào): B23K26/064
• 代理公司: 華中科技大學(xué)專利中心 42201
• 代理人: 廖盈春

1.一種同軸共焦光路實(shí)現(xiàn)場(chǎng)鏡焦平面定位的裝置，其特征在于，包括場(chǎng)鏡(1)、半透半反鏡(2)、電動(dòng)變倍鏡頭(3)、攝像機(jī)(4)和位移平臺(tái)(6)；

所述半透半反鏡(2)與成像光路光軸呈45度角放置，實(shí)現(xiàn)成像光路光軸的90度變換，激光光路光軸與成像光路光軸重合；所述半透半反鏡(2)的透射側(cè)設(shè)置有所述場(chǎng)鏡(1)，所述半透半反鏡(2)的反射側(cè)設(shè)置有所述電動(dòng)變倍鏡頭(3)；

用于放置加工工件(5)的位移平臺(tái)(6)設(shè)置在激光光路上，所述攝像機(jī)(4)與所述電動(dòng)變倍鏡頭(3)固定連接；所述場(chǎng)鏡(1)的焦平面和所述攝像機(jī)(4)的成像面重合。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，工作時(shí)，加工工件(5)放置在所述位移平臺(tái)(6)上，場(chǎng)鏡(1)發(fā)出的激光經(jīng)所述半透半反鏡(2)透射后作用在所述加工工件(5)；所述加工工件(5)反射的可見(jiàn)光經(jīng)所述半透半反鏡(2)反射后進(jìn)入所述電動(dòng)變倍鏡頭(3)，并到達(dá)攝像機(jī)(4)成像平面。

3.如權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述半透半反鏡(2)為雙面鍍有激光波段的高透膜且反射面鍍有可見(jiàn)光高反膜的半透半反鏡。

4.一種同軸共焦光路實(shí)現(xiàn)場(chǎng)鏡焦平面定位的裝置，其特征在于，包括場(chǎng)鏡(1)、半透半反鏡(2)、電動(dòng)變倍鏡頭(3)、攝像機(jī)(4)和位移平臺(tái)(6)；

所述半透半反鏡(2)與成像光路光軸呈45度角放置，實(shí)現(xiàn)成像光路光軸的90度變換，激光光路光軸與成像光路光軸重合；所述半透半反鏡(2)的透射側(cè)設(shè)置有所述電動(dòng)變倍鏡頭(3)，所述半透半反鏡(2)的反射側(cè)設(shè)置有所述場(chǎng)鏡(1)；

用于放置加工工件(5)的位移平臺(tái)(6)設(shè)置在激光光路上，所述攝像機(jī)(4)與所述電動(dòng)變倍鏡頭(3)固定連接；所述場(chǎng)鏡(1)的焦平面和所述攝像機(jī)(4)的成像面重合。

5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，工作時(shí)，加工工件(5)放置在所述位移平臺(tái)(6)上，場(chǎng)鏡(1)發(fā)出的激光經(jīng)所述半透半反鏡(2)反射后作用在所述加工工件(5)上；所述加工工件(5)反射的可見(jiàn)光經(jīng)所述半透半反鏡(2)透射后進(jìn)入所述電動(dòng)變倍鏡頭(3)，并到達(dá)所述攝像機(jī)(4)成像平面。

6.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述半透半反鏡(2)為雙面鍍有可見(jiàn)光波段的高透膜且透射面鍍有激光波段高反膜的半透半反鏡。